公开(公告)号：CN118721017A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202410841858.4

申请日：2024-06-27

申请人： 西安奕斯伟材料科技股份有限公司 ,  西安奕斯伟硅片技术有限公司

发明人： 张申申

IPC分类号： B24B37/34 ,  B24B37/005 ,  B24B57/02 ,  B24B57/00

摘要： 本发明提供了一种抛光液补液设备、方法以及装置。该设备包括：存储罐，用于回收和存储抛光液，并为与所述存储罐连接的抛光设备提供抛光液；数据分析装置，用于根据所存储的目标模型确定对所述存储罐进行补液的第一速度，并将所述第一速度作为补液速度发送给控制装置；与所述数据分析装置连接的所述控制装置，用于根据所述数据分析装置发送的补液速度控制补液系统对所述存储罐进行补液的速度。本发明的方案，根据包括抛光设备的运行参数和抛光垫的磨损情况，确定所述抛光设备的抛光液消耗量，从而确定对存储罐进行补液的第一速度，实现了对抛光液的自动补液，提高了抛光效率且避免了因补液不及时造成晶圆报废的问题。

公开(公告)号：CN117359472A

公开(公告)日：2024-01-09

申请号：CN202311595528.3

申请日：2023-11-27

申请人： 西安奕斯伟材料科技股份有限公司 ,  西安奕斯伟硅片技术有限公司

发明人： 张申申 ,  孙介楠

IPC分类号： B24B29/04 ,  B24B53/12 ,  B24B53/00 ,  B24B1/00

摘要： 本公开涉及边缘抛光设备及边缘抛光方法，所述边缘抛光设备包括：用于承载硅片的承载模块；边缘抛光模块，所述边缘抛光模块设置成用于对所述硅片的边缘进行抛光；修整模块；其中，所述修整模块包括抛磨部和清理部，所述抛磨部设置成能够在所述边缘抛光模块对所述硅片的边缘进行抛光的同时，通过抛磨所述边缘抛光模块来对所述边缘抛光模块进行修整，所述清理部设置成能够在所述边缘抛光模块对所述硅片的边缘进行抛光的同时，通过清理所述边缘抛光模块来对所述边缘抛光模块进行修整。