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发明公开
一种物料旋涂装置审中-实审

公开(公告)号：CN118543482A

公开(公告)日：2024-08-27

申请号：CN202410774090.3

申请日：2024-06-17

申请人： 西安理工大学

发明人： 安宁丽 , 方长青 , 万亮亮 , 郭嘉鹏 , 刘际文 , 李甲楠

IPC分类号： B05C1/02 , B05C11/10 , B05C13/02 , B01F25/431

摘要： 本发明公开了一种物料旋涂装置，所述装置用于半导体器件中柔性电子功能层的制造，所述装置包括：进料结构、混料结构、取向调控结构、驱动结构和旋转刮涂结构，其中，进料结构，用于导入多种待旋涂物料；混料结构，用于对所述多种待旋涂物料进行混合，以获得混合后的待旋涂物料；取向调控结构，用于对所述混合后的待旋涂物料进行取向调控；旋转刮涂结构，用于基于驱动结构将所述取向调控后的待旋涂物料旋涂至待旋涂基材上。本发明能够提高电子功能层的制造过程中物料在基材上旋涂的均匀性。