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发明公开
一种基于在机测量技术提升五轴定位测量精度的方法审中-实审

公开(公告)号：CN117817440A

公开(公告)日：2024-04-05

申请号：CN202410003975.3

申请日：2024-01-03

申请人： 西安精雕精密机械工程有限公司

发明人： 冉伟亮 , 郝宗元 , 蔡锐龙 , 董竞哲 , 刘军 , 周小龙

IPC分类号： B23Q17/20

摘要： 本发明公开了一种基于在机测量技术提升五轴定位测量精度的方法，该创建方法通过在待加工模型上创建公共基准及被测元素基准，使用公共基准与被测元素基准构建被测元素的工件位置补偿，被测元素基于工件位置补偿下进行测量，以降低被测元素之间受机床复合误差影响的测量误差，提升测量精度。本方法能够提高五轴定位测量精度，改善加工良率；使用范围广，支持多种类型的机床；降低人工参与，减少出错率；提高用户可执行性，规范操作步骤。