公开(公告)号：CN101963656A

公开(公告)日：2011-02-02

申请号：CN200910157757.0

申请日：2009-07-24

申请人： 西门子迈迪特(深圳)磁共振有限公司

发明人： 戴勇鸣 ,  贺强

IPC分类号： G01R33/24

摘要： 本发明公开了一种附加磁场检测方法，包括：生成被测梯度脉冲，并在所述被测梯度脉冲结束后，获取两个自由感应衰减信号；其中，第一个自由感应衰减信号同时受到主磁场和附加磁场的影响，第二个自由感应衰减信号只受到主磁场的影响；通过分析两个自由感应衰减信号的相位差，确定附加磁场的变化情况。本发明同时公开了一种附加磁场检测装置。应用本发明所述的方法和装置，能够有效地检测出附加磁场的变化情况。

公开(公告)号：CN101937067A

公开(公告)日：2011-01-05

申请号：CN200910148477.3

申请日：2009-06-30

申请人： 西门子迈迪特(深圳)磁共振有限公司

发明人： 贺强 ,  廖然 ,  陈进军

IPC分类号： G01R35/00

摘要： 本发明公开了一种匀场框架位置校正方法，包括：A、进行激光灯定位，并将病床(PTAB)移动到所认为的中心位置；B、测量得到所需图像，并根据测量得到的图像确定所述PTAB偏离实际中心位置的距离和方向；按照确定出的距离和方向移动所述PTAB。本发明同时公开了一种匀场框架位置校正装置。应用本发明所述的方法和装置，能够提高匀场框架的位置精度，从而提高成像质量，且易于实现。

公开(公告)号：CN101936706A

公开(公告)日：2011-01-05

申请号：CN200910148476.9

申请日：2009-06-30

申请人： 西门子迈迪特(深圳)磁共振有限公司

发明人： 贺强 ,  廖然 ,  陈进军

IPC分类号： G01B11/00 ,  G01R33/387

摘要： 本发明公开了一种匀场框架位置校正方法，包括：A、进行激光灯定位，并将病床(PTAB)移动到所认为的中心位置；B、测量得到所需图像，并根据测量得到的图像确定所述PTAB偏离实际中心位置的距离和方向；按照确定出的距离和方向移动所述PTAB。本发明同时公开了一种匀场框架位置校正装置。应用本发明所述的方法和装置，能够提高匀场框架的位置精度，从而提高成像质量，且易于实现。