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1.

发明公开
光刻制版激光器的处理监视系统失效

公开(公告)号：CN1401103A

公开(公告)日：2003-03-05

申请号：CN01805136.7

申请日：2001-02-05

申请人： 西默股份有限公司

发明人： P·S·帕特尔 , J·E·康韦 , M·坦特 , J·W·莫恩 , J·R·卡莱斯 , R·L·格林 , T·A·沃森 , C·G·罗恩

IPC分类号： G06F15/00 , H01S3/00

CPC分类号： G03F7/70991 , G03F7/70525 , G03F7/70975 , G05B2219/31205 , G05B2219/31485 , G07C3/005 , Y02P90/86

摘要： 一种至少位于一个集成电路制造厂的光刻制版激光器(2)监视系统。各制造厂的各激光器(2)与一个终端服务器(6)关联。对各制造厂而言，中央控制服务器单元(8)通过局域网(7)与各激光器(2)通信。中央控制服务器单元(8)收集来自激光器(2)的信息，并用该信息对有访问权的关注方提供以网站格式可得的摘要信息。

2.

发明授权
光刻制版激光器的处理监视系统失效

公开(公告)号：CN1168024C

公开(公告)日：2004-09-22

申请号：CN01805136.7

申请日：2001-02-05

申请人： 西默股份有限公司

发明人： P·S·帕特尔 , J·E·康韦 , M·坦特 , J·W·莫恩 , J·R·卡莱斯 , R·L·格林 , T·A·沃森 , C·G·罗恩

IPC分类号： G06F15/00 , H01S3/00

CPC分类号： G03F7/70991 , G03F7/70525 , G03F7/70975 , G05B2219/31205 , G05B2219/31485 , G07C3/005 , Y02P90/86

摘要： 一种至少位于一个集成电路制造厂的光刻制版激光器(2)监视系统。各制造厂的各激光器(2)与一个终端服务器(6)关联。对各制造厂而言，中央控制服务器单元(8)通过局域网(7)与各激光器(2)通信。中央控制服务器单元(8)收集来自激光器(2)的信息，并用该信息对有访问权的关注方提供以网站格式可得的摘要信息。