公开(公告)号：CN105592915A

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201480053720.2

申请日：2014-10-06

申请人： 豪威株式会社

发明人： 朴镕珉 ,  李周衍 ,  权五成

IPC分类号： B01D65/06 ,  B01D65/02 ,  B01D61/58 ,  B01D61/02

CPC分类号： B01D65/02 ,  B01D61/022 ,  B01D61/025 ,  B01D61/027 ,  B01D61/12 ,  B01D61/16 ,  B01D2317/022

摘要： 本发明涉及构成为两列的RO/NF分离膜系统的化学清洗方法，通过预测导致膜污染的原因物质，并利用适宜于该物质的化学清洗剂，对反渗透膜模块和纳滤膜模块进行化学清洗，从而恢复并维持分离膜的过滤性能。在分离膜的过滤工序中，因多种原因发生膜被污染的现象，而根据本发明，通过预测作为膜污染的原因物质，并利用适宜于该物质的化学清洗剂进行化学清洗，从而可提高清洗效率。由此，可确保较长的化学清洗周期，从而减少化学清洗所需的时间、药品费用等。