抛光清洗装置和抛光设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118596019A

    公开(公告)日:2024-09-06

    申请号:CN202410859282.4

    申请日:2024-06-28

    摘要: 本发明提供了一种抛光清洗装置和抛光设备,涉及抛光技术领域,该抛光清洗装置包括清洗水箱、第一摇摆机构、第二摇摆机构和晶片放置架,清洗水箱中装有清洗液,第一摇摆机构具有能够沿上下方向做直线往复运动的第一台面;第二摇摆机构设置在第一台面上,并具有能够绕水平轴线往复转动的第二台面;晶片放置架设置在第二台面上,并设置有多个晶片放置槽。相较于现有技术,本发明通过增设第一摇摆机构和第二摇摆机构,能够实现晶片在清洗液中的上下移动和旋转晃动,在运动过程中能够通过实现多方向清洗,使得清洗液与晶片表面充分接触,并彻底去除晶片上残留的抛光液或颗粒残留,清洗效果更好。

    刷片包装一体机
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117943365A

    公开(公告)日:2024-04-30

    申请号:CN202410323087.X

    申请日:2024-03-21

    摘要: 本发明提供了一种刷片包装一体机,涉及晶片处理技术领域,该刷片包装一体机包括密封清洁室、入料装置、清洁刷片装置、出料装置和包装机构,将入料装作设置在密封清洁室的一端,同时将清洁刷片装置设置在入料装置的一侧,从而实现对晶片的清洁动作,将出料装置设置在清洁刷片远离入料装置的一侧,并与清洁刷片装置连接,而包装机构设置在出料装置远离清洁刷片装置的一侧,并与出料装置连接,能够对晶片进行包装。相较于现有技术,本发明实现了刷片和包装一体化设计,保证了整体不会与外部污染源接触,同时避免了包装过程中造成晶片污染,由此避免刷片后的晶片接触到外界,避免了晶片二次污染的风险。

    碳化硅晶圆贴膜装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118782502A

    公开(公告)日:2024-10-15

    申请号:CN202411040383.5

    申请日:2024-07-31

    发明人: 邹静 林义复

    IPC分类号: H01L21/67

    摘要: 本发明提供了一种碳化硅晶圆贴膜装置,属于半导体加工领域,包括底座、翻盖、卷筒及切割机构,底座设置有用于放置晶圆的载台,翻盖可转动地安装于底座,用于露出或者盖住载台,卷筒设置于底座,卷筒上卷绕有用于贴附晶圆的uv膜。切割机构包括动力件、主动轴、多个从动轴、第一刀具及多个第二刀具,动力件与主动轴传动连接,主动轴通过传动件同时与多个从动轴传动连接,第一刀具用于与主动轴可拆卸连接,多个第二刀具用于一一对应地与多个从动轴可拆卸连接,第一刀具的切割直径大于第二刀具的切割直径。本碳化硅晶圆贴膜装置通过设置不同切割直径的刀具,可以适配不同尺寸的晶圆,具有适用范围广,实用性强的特点。

    刷片包装一体机
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN117943365B

    公开(公告)日:2024-07-19

    申请号:CN202410323087.X

    申请日:2024-03-21

    摘要: 本发明提供了一种刷片包装一体机,涉及晶片处理技术领域,该刷片包装一体机包括密封清洁室、入料装置、清洁刷片装置、出料装置和包装机构,将入料装作设置在密封清洁室的一端,同时将清洁刷片装置设置在入料装置的一侧,从而实现对晶片的清洁动作,将出料装置设置在清洁刷片远离入料装置的一侧,并与清洁刷片装置连接,而包装机构设置在出料装置远离清洁刷片装置的一侧,并与出料装置连接,能够对晶片进行包装。相较于现有技术,本发明实现了刷片和包装一体化设计,保证了整体不会与外部污染源接触,同时避免了包装过程中造成晶片污染,由此避免刷片后的晶片接触到外界,避免了晶片二次污染的风险。