泵浦光组件、盘式激光器及由此用于泵浦激光活性介质的方法

    公开(公告)号:CN107317215B

    公开(公告)日:2021-02-02

    申请号:CN201710282113.9

    申请日:2017-04-26

    IPC分类号: H01S3/091

    摘要: 一种用于盘式激光器的泵浦光组件包括:聚焦装置,特别是凹面镜,其具有用于使泵浦光射束聚焦到激光活性介质上的反射面;和用于使泵浦光射束在反射面上形成的反射区域之间偏转的偏转组件,其在围绕反射面的中轴线的不同角度区域中布置在至少一个第一环形区域和第二环形区域中,偏转组件构造用于使泵浦光射束在第一环形区域的两个反射区域之间进行至少一次偏转且在第二环形区域的两个反射区域之间进行至少一次偏转。偏转装置也构造用于在泵浦光射束在相对于中轴线的径向方向上图像反转的情况下进行下述数量的在两个环形区域的两个反射区域之间的偏转,该数量相应于在两个环形区域的两个反射区域之间的偏转的总数量的至少三分之一、优选至少一半。

    泵浦光组件、盘式激光器及由此用于泵浦激光活性介质的方法

    公开(公告)号:CN107317215A

    公开(公告)日:2017-11-03

    申请号:CN201710282113.9

    申请日:2017-04-26

    IPC分类号: H01S3/091

    摘要: 一种用于盘式激光器的泵浦光组件包括:聚焦装置,特别是凹面镜,其具有用于使泵浦光射束聚焦到激光活性介质上的反射面;和用于使泵浦光射束在反射面上形成的反射区域之间偏转的偏转组件,其在围绕反射面的中轴线的不同角度区域中布置在至少一个第一环形区域和第二环形区域中,偏转组件构造用于使泵浦光射束在第一环形区域的两个反射区域之间进行至少一次偏转且在第二环形区域的两个反射区域之间进行至少一次偏转。偏转装置也构造用于在泵浦光射束在相对于中轴线的径向方向上图像反转的情况下进行下述数量的在两个环形区域的两个反射区域之间的偏转,该数量相应于在两个环形区域的两个反射区域之间的偏转的总数量的至少三分之一、优选至少一半。