一种真空成膜装置及成膜方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119951161A

    公开(公告)日:2025-05-09

    申请号:CN202510436678.2

    申请日:2025-04-09

    Abstract: 本发明公开了一种真空成膜装置及成膜方法,涉及真空成膜技术领域,其中装置包括真空腔体,所述真空腔体连接有抽气管路、进气管路和泄压管路,所述抽气管路远离所述真空腔体的一端连接有真空泵,所述抽气管路上设有比例阀,所述进气管路远离所述真空腔体的一端连接有惰性气体源,所述惰性气体源能够向所述真空腔体内输送惰性气体,所述进气管路上设有进气调节阀,所述泄压管路远离所述真空腔体的一端连接有泄压气源,所述泄压气源能够向所述真空腔体内输送泄压气体。本发明通入惰性气体来使真空腔体内的压力位置在成膜初始压力一段时间,并且采用真空泵数量少,使用成本低,并且占用空间较小。

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