黑色着色组合物和包含其的黑色着色抗蚀剂组合物

    公开(公告)号:CN109725491B

    公开(公告)日:2023-09-12

    申请号:CN201811269553.1

    申请日:2018-10-29

    摘要: 本发明的课题在于提供一种分散性优异且绝缘性高、介电常数低、NMP抗性良好、光学浓度高的新型黑色着色组合物以及包含其的黑色着色抗蚀剂组合物。具体而言为一种黑色着色组合物,作为A.着色剂,含有以下1~6组合中的任意一项:1.a.SV49;2.a.SV49和b.蓝色及/或者绿色颜料;3.a.SV49、b.蓝色及/或者绿色颜料和c.紫色颜料;4.a.SV49、b.蓝色及/或者绿色颜料和e.红色及/或者橙色颜料;5.b1.PB60及/或者PB80、d.紫色着色剂和e.红色及/或者橙色颜料;6.选自e1.PO34、PO72、PR57:1、PR149、PR170、PR179和PR214中的至少一种、b.蓝色及/或者绿色颜料和d.紫色着色剂。

    用于黑矩阵的颜料分散组合物和用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物

    公开(公告)号:CN113621274B

    公开(公告)日:2024-07-05

    申请号:CN202110490947.5

    申请日:2021-05-06

    IPC分类号: C09D17/00 G03F7/004 G03F7/027

    摘要: 本发明涉及用于黑矩阵的颜料分散组合物和用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物,所述用于黑矩阵的颜料分散组合物包含炭黑和/或内酰胺黑、二氧化硅、含碱性基团的颜料分散剂、碱溶性树脂以及溶剂,并且所述二氧化硅通过六甲基硅氮烷进行表面处理,相对于100质量份的所述炭黑和/或内酰胺黑,所述二氧化硅为40质量份以下。该用于黑矩阵的颜料分散组合物的分散稳定性优异,并可获得具有低反射率的用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物。

    黑色着色组合物和包含其的黑色着色抗蚀剂组合物

    公开(公告)号:CN109725491A

    公开(公告)日:2019-05-07

    申请号:CN201811269553.1

    申请日:2018-10-29

    摘要: 本发明的课题在于提供一种分散性优异且绝缘性高、介电常数低、NMP抗性良好、光学浓度高的新型黑色着色组合物以及包含其的黑色着色抗蚀剂组合物。具体而言为一种黑色着色组合物,作为A.着色剂,含有以下1~6组合中的任意一项:1.a.SV49;2.a.SV49和b.蓝色及/或者绿色颜料;3.a.SV49、b.蓝色及/或者绿色颜料和c.紫色颜料;4.a.SV49、b.蓝色及/或者绿色颜料和e.红色及/或者橙色颜料;5.b1.PB60及/或者PB80、d.紫色着色剂和e.红色及/或者橙色颜料;6.选自e1.PO34、PO72、PR57:1、PR149、PR170、PR179和PR214中的至少一种、b.蓝色及/或者绿色颜料和d.紫色着色剂。

    黑矩阵用颜料分散组合物、黑矩阵用颜料分散阻剂组合物、及黑阻剂膜

    公开(公告)号:CN118259543A

    公开(公告)日:2024-06-28

    申请号:CN202311413969.7

    申请日:2023-10-30

    IPC分类号: G03F7/004 G03F7/027

    摘要: 本发明涉及黑矩阵用颜料分散组合物、黑矩阵用颜料分散阻剂组合物、及黑阻剂膜。具体的,本发明的黑矩阵用颜料分散组合物是含有碳黑、无机化合物、含碱性基团的颜料分散剂、含酸性基团的颜料分散助剂、碱可溶性树脂、及溶剂的黑矩阵用颜料分散组合物,所述无机化合物是选自由氢氧化铝、氧化铝、硫酸钡、钛酸钡、氮化硼、及离子捕捉剂所组成的群中的一种以上,所述碱可溶性树脂是碱可溶性卡多树脂,所述无机化合物相对于所述碳黑100质量份为1~10质量份。该黑矩阵用颜料分散组合物能够获得细线密接性及耐表面粗糙性优异的黑矩阵用颜料分散阻剂组合物。

    用于黑矩阵的颜料分散组合物和用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物

    公开(公告)号:CN113621274A

    公开(公告)日:2021-11-09

    申请号:CN202110490947.5

    申请日:2021-05-06

    IPC分类号: C09D17/00 G03F7/004 G03F7/027

    摘要: 本发明涉及用于黑矩阵的颜料分散组合物和用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物,所述用于黑矩阵的颜料分散组合物包含炭黑和/或内酰胺黑、二氧化硅、含碱性基团的颜料分散剂、碱溶性树脂以及溶剂,并且所述二氧化硅通过六甲基硅氮烷进行表面处理,相对于100质量份的所述炭黑和/或内酰胺黑,所述二氧化硅为40质量份以下。该用于黑矩阵的颜料分散组合物的分散稳定性优异,并可获得具有低反射率的用于黑矩阵的颜料分散光阻组合物。