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发明公开
用于如离子和同位素生产等高真空应用的磁旋转装置审中-实审

公开(公告)号：CN117836899A

公开(公告)日：2024-04-05

申请号：CN202180101533.7

申请日：2021-08-13

申请人： 阳光技术有限责任公司

发明人： D·马丁

IPC分类号： H01J37/34 , C23C14/35 , C23C14/46 , C23C14/50 , H01J37/317

摘要： 一种设备包含：壁，所述壁限定抽空空间的边界并且具有位于所述抽空空间内部的第一侧和位于所述抽空空间外部的第二侧；第一板，所述第一板定位在所述壁的第一侧上并且包含第一磁体；第二板，所述第二板定位在所述壁的第二侧上并且包含第二磁体；以及电机，所述电机机械地耦接到所述第二板并且被配置成驱动所述第二板旋转。所述第二磁体对所述第一磁体施加吸引力，所述吸引力使得所述第一板响应于所述第二板的所述旋转而旋转。