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公开(公告)号：CN101286374A
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200810108150.9
申请日：2006-11-15
申请人： 阿利发NP有限公司
发明人： H-O·博斯奥特 , T·C·玛希尔 , F·施特勒默尔
IPC分类号： G21F9/28 , G21F9/00
CPC分类号： G21F9/28 , G21F9/002 , G21F9/004
摘要： 本发明涉及一种对核技术设施的部件或系统的含氧化层表面去污的方法，其中使用气态的氮氧化物(NOx)作为氧化剂处理氧化层。
公开(公告)号：CN101286374B
公开(公告)日：2012-02-22
公开(公告)号：CN101199026B
申请号：CN200680021755.3
IPC分类号： G21F9/00 , G21F9/28
摘要： 本发明涉及一种对核技术设施的部件或系统的含氧化层表面去污的方法，其中在所述表面上产生酸性水膜，该水膜与气态的酸酐进行接触，并使用气态的臭氧作为氧化剂处理氧化层。
公开(公告)号：CN101199026A
公开(公告)日：2008-06-11
摘要： 本发明涉及一种对核技术设施的部件或系统的含氧化层表面去污的方法，其中使用气态的氧化剂处理氧化层。
