去离子装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105612128A

    公开(公告)日:2016-05-25

    申请号:CN201480055189.2

    申请日:2014-11-20

    发明人: 黃俊植

    IPC分类号: C02F1/469

    摘要: 本发明涉及去离子装置,本发明的去离子装置包括:多孔电极,具有微细气孔;无气孔离子交换膜,形成于上述多孔电极;相向电极,隔着空间与上述无气孔离子交换膜相向;以及间隔物,位于上述多孔电极与上述相向电极之间的空间,具有用于使处理水经过的流路。

    去离子装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105612128B

    公开(公告)日:2019-05-03

    申请号:CN201480055189.2

    申请日:2014-11-20

    发明人: 黃俊植

    IPC分类号: C02F1/469

    摘要: 本发明涉及去离子装置,本发明的去离子装置包括:多孔电极,具有微细气孔;无气孔离子交换膜,形成于上述多孔电极;相向电极,隔着空间与上述无气孔离子交换膜相向;以及间隔物,位于上述多孔电极与上述相向电极之间的空间,具有用于使处理水经过的流路。