一种用于区域辐射监测仪的辐射数据校准方法

    公开(公告)号:CN119357567A

    公开(公告)日:2025-01-24

    申请号:CN202411920997.2

    申请日:2024-12-25

    Abstract: 本发明涉及辐射测量技术领域,具体涉及一种用于区域辐射监测仪的辐射数据校准方法,包括:根据每个位置的辐射斜率序列中每个时刻的局部范围内数据的变化趋势、辐射数据曲线中所有相邻极值点之间的时间间隔的差异,获得每个位置的每个时刻的辐射数据受干扰程度;通过每个位置与其他位置的辐射数据序列之间的相关程度、所述受干扰程度,获得每个位置的每个时刻的辐射数据修正后的受干扰程度;通过区域中每个时刻所有位置的辐射数据的分布、所述修正后的受干扰程度,对每个时刻所有位置的辐射数据进行修正,获得区域校准后的辐射数据。本发明提高了区域辐射数据监测的精确性。

    一种用于放射性薄层扫描仪的薄层扫描测定方法

    公开(公告)号:CN118858511A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202411329091.3

    申请日:2024-09-24

    Abstract: 本发明涉及物理分析技术领域,具体涉及一种用于放射性薄层扫描仪的薄层扫描测定方法,包括:获取同一待测样品的多个放射性薄层色谱图,分析每个峰的差异性、差异均值和变异系数,结合展开缸内的温度值进行调控,计算每个峰的峰态离差值及温度调控有效峰。最后根据色谱峰态调控效能指数和色谱重现性综合指数,评估调控后每个放射性薄层色谱图的重现性。本发明增强了检测的重现性,提升了整体的检测准确性。

    一种医用回旋加速器真空室密封性检测方法及系统

    公开(公告)号:CN118758529A

    公开(公告)日:2024-10-11

    申请号:CN202411252494.2

    申请日:2024-09-09

    Abstract: 本发明涉及真空室密封度的检测的领域,具体涉及一种医用回旋加速器真空室密封性检测方法及系统,所述方法包括:采集各个真空室的压强数据随时间检测点的变化情况,根据所述变化情况对待检测真空室的密封情况进行评价来获取情况评价值;根据各个所述真空室运行前的压强数据以及所述情况评价值来获取对所述待检测真空室密封度的影响程度;根据所述情况评价值和所述影响程度的归一化结果来获取所述待检测真空室密封度的真实评价值;根据各个真空室的真实评价值来获取所述待检测真空室的漏气可能程度,并判断归一化后的所述漏气可能程度是否大于预设阈值,若是,则所述待检测真空室存在漏气情况。采用本发明,对于真空室密封度的检测更加精准。

    一种用于薄层色谱扫描仪的曲线图像补偿方法

    公开(公告)号:CN119224202B

    公开(公告)日:2025-03-04

    申请号:CN202411719376.8

    申请日:2024-11-28

    Abstract: 本发明涉及色谱测试技术领域,具体涉及一种用于薄层色谱扫描仪的曲线图像补偿方法,包括:获取任意薄层板的初始色谱曲线上任意峰的分离效果异常程度,获取所述薄层板需调控流动相流速的程度,根据薄层板需调控流动相流速的程度对所有薄层板调控流动相流速,将流动相流速调控后任意薄层板的色谱曲线作为所述薄层板的初始色谱曲线的补偿曲线。本发明提高了因对应薄层板表面不均匀导致对待测样品分离不好的情况,减少了对应曲线中峰形异常的情况,实现对色谱曲线的有效补偿。

    一种全自动放射性药物合成器优化校准方法及系统

    公开(公告)号:CN118988207B

    公开(公告)日:2025-01-24

    申请号:CN202411472212.X

    申请日:2024-10-22

    Abstract: 本发明涉及化学或物理有关设备的技术领域,具体涉及一种全自动放射性药物合成器优化校准方法及系统。本发明首先获取放射性药物合成过程中的监测数据,监测数据包括放射性药物合成器在每个待优化校准时刻的预设历史时段内的所有电压数据及所有辐射能谱;进一步获取药物合成器的性能不稳定参数、辐射危害参数及反应不良参数;从而综合获取每个待优化校准时刻下药物合成器的优化校准参数;根据优化校准参数调整放射性药物合成过程。本发明在药物合成器的性能稳定情况的基础上,分析药物合成过程中辐射危害及反应产物等反应情况,根据实际药物反应进程对药物合成器进行优化校准,提高了对药物合成器的优化校准效果。

    一种医用回旋加速器偏转引出的暗电流监测方法及装置

    公开(公告)号:CN118914642A

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202411406329.8

    申请日:2024-10-10

    Abstract: 本发明涉及数据处理技术领域,具体涉及一种医用回旋加速器偏转引出的暗电流监测方法及装置,包括:采集医用回旋加速器中的束流强度和暗电流数据;得到束流强度和暗电流的两条稳定性直线的斜率和束流强度和暗电流的两条稳定性曲线,进而得到束流强度和暗电流数据的相互作用程度;得到每段束流强度的预测变化程度;得到每段暗电流数据的预测变化趋势;得到每段暗电流数据调整后的采样频率;得到暗电流数据中存在的显著性变化。本发明通过分析医用回旋加速器中束流与暗电流之间的关系,实现对暗电流的动态监测和实时调整,提高了监测的准确性和可靠性。

    一种用于放射性药物合成的杂质检测方法

    公开(公告)号:CN118707018A

    公开(公告)日:2024-09-27

    申请号:CN202411178906.2

    申请日:2024-08-27

    Abstract: 本发明涉及色谱分析测定技术领域,具体涉及一种用于放射性药物合成的杂质检测方法。本发明获取多浓度待测样品的色谱图;根据所有色谱图中峰高变化及谱峰间隔,获取每种待分析色谱峰对邻近色谱峰的干扰可能性;进而结合形状特征,获取每种待分析色谱峰的拖尾影响程度;进一步结合峰形偏移的相关性,获取每个色谱图中每个待分析色谱峰的修正权重,从而调整获取所有修正色谱图以进行杂质检测。本发明综合分析多浓度待测样品中每种待分析色谱峰对邻近色谱峰的干扰影响,进一步结合其峰形偏移特征,评估每个待分析色谱峰的拖尾影响程度,从而确定修正权重以调整降低拖尾影响,提高了对放射性药物中的杂质检测效率及准确性。

    一种放射性药物合成反应器可视化监控方法及系统

    公开(公告)号:CN118628360A

    公开(公告)日:2024-09-10

    申请号:CN202411111026.3

    申请日:2024-08-14

    Abstract: 本发明涉及图像滤波技术领域,具体涉及一种放射性药物合成反应器可视化监控方法及系统。本发明首先获取反应器热成像的温度分布异常程度;根据在连续采样时刻下环境参数的波动特征与反应器热成像的温度分布异常程度之间的相关性,以及待分析时刻的环境参数的波动特征,获取环境参数干扰度;根据在冷却过程中冷却前和冷却后的反应器热成像之间的温度值差异,获取待滤波热成像的冷却换热干扰度;根据噪声干扰度设置滤波核,对待滤波热成像进行滤波,获取反应器滤波图像进行监控。本发明通过构建反映噪声情况的噪声干扰度,实现高斯滤波核合理设置,改善高斯滤波效果,保障反应器异常监控准确性。

Patent Agency Ranking