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发明公开
具有纳米图案浅凹表面的种植体及其制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN109069690A

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：CN201780026242.X

申请日：2017-05-08

申请人： 韩国电气研究院

发明人： 金杜宪

IPC分类号： A61L27/06 , A61L27/30 , A61C8/00 , C25D11/26

摘要： 本发明涉及一种具有纳米图案浅凹表面的种植体及其制造方法，其特征在于，包括：通过对由钛金属或钛合金制成的种植体主体进行阳极氧化而形成氧化钛纳米管的步骤；以及，通过对上述氧化钛纳米管进行去除而在上述种植体主体的表面形成浅凹的步骤。借此，能够通过在对种植体主体的表面进行阳极氧化之后再对阳极氧化的表面进行去除而在其表面形成浅凹，同时能够通过使阳极氧化的钛氧化膜剥落而防止其落入生物体内部，且能够对表面所残留的杂质进行有效去除。此外，能够借助于钛或钛合金作为种植体主体的原材料的使用并通过表面阳极氧化而形成的浅凹，将移植到生物体内部时的表面积最大化，从而提供优秀的生物相容性、化学稳定性以及机械稳定性，而且能够通过在执行喷砂或SLA(Sand blasted，Large-grit，Acid etched)工艺的同时执行阳极氧化而形成包括纳米图案的不同大小浅凹。