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发明公开
用于重映射像素位置的方法和设备审中-实审

公开(公告)号：CN114008516A

公开(公告)日：2022-02-01

申请号：CN201980087953.7

申请日：2019-11-19

申请人： 飞行安全国际公司

发明人： D.M.埃米格 , B.A.埃伯特 , T.R.林恩

IPC分类号： G02B27/09 , G06T3/00 , G06T15/20 , G06T5/00

摘要： 用于光学地重映射投影像素以最大化利用并优化重映射的投影像素的分布以实现最佳视觉性能(通常均匀的分辨率和亮度)的设备和方法。一种置于投影仪和成像表面之间的装置，用于以最小像差光学地重映射投影像素位置。当该装置置于投影仪和成像表面之间时，它改变每个聚焦像素的终端位置，使得它最大程度地与成像表面重合，该成像表面通常是复杂曲率的表面，并且与投影仪的自然聚焦表面非常不同。该技术的一实施方式包括使用多个光学表面的装置。