公开(公告)号：CN101263406A

公开(公告)日：2008-09-10

申请号：CN200680033855.8

申请日：2006-09-11

申请人： 3M创新有限公司

发明人： 天野贵志 ,  中村恒久

IPC分类号： G02B3/08

CPC分类号： G02B3/08 ,  F24S23/31 ,  Y02E10/43

摘要： 使用折射率为例如1.494的丙烯酸类树脂时，菲涅尔透镜被构造为：在要求偏向角为19.5°或更小的链段，使用不会导致任何反射的单纯折射棱镜；在要求偏向角为31.0°或更大的链段，则使用光在其中完全内部反射一次、然后再折射的单步完全反射棱镜；在要求偏向角不小于19.5°，但不大于31.0°的链段，使用光在其中完全内部反射两次、然后再折射的两步完全反射棱镜。

公开(公告)号：CN1179825C

公开(公告)日：2004-12-15

申请号：CN01814133.1

申请日：2001-08-09

申请人： 3M创新有限公司

发明人： 天野贵志 ,  渡瀬稔彦 ,  今村健吾

IPC分类号： B24D11/00 ,  B24B37/04 ,  B24D13/14

CPC分类号： B24D3/28 ,  B24B37/26

摘要： 公开了一种具有底材(12)和置于其上的研磨层的化学机械抛光用研磨垫。一种研磨垫，它具有底材和置于该底材上的研磨层，所述研磨层具有三维结构，该三维结构包括许多个规则排列的具有预定形状的三维元件(11)，所述研磨层包含研磨复合物，该复合物含有用化学气相淀积方法制得的高级氧化铝磨粒和粘合剂作为结构组分。

公开(公告)号：CN101263406B

公开(公告)日：2010-08-11

申请号：CN200680033855.8

申请日：2006-09-11

申请人： 3M创新有限公司

发明人： 天野贵志 ,  中村恒久

IPC分类号： G02B3/08

CPC分类号： G02B3/08 ,  F24S23/31 ,  Y02E10/43

摘要： 使用折射率为例如1.494的丙烯酸类树脂时，菲涅尔透镜被构造为：在要求偏向角为19.5°或更小的链段，使用不会导致任何反射的单纯折射棱镜；在要求偏向角为31.0°或更大的链段，则使用光在其中完全内部反射一次、然后再折射的单步完全反射棱镜；在要求偏向角不小于19.5°，但不大于31.0°的链段，使用光在其中完全内部反射两次、然后再折射的两步完全反射棱镜。

公开(公告)号：CN1447735A

公开(公告)日：2003-10-08

申请号：CN01814133.1

申请日：2001-08-09

申请人： 3M创新有限公司

发明人： 天野贵志 ,  渡瀬稔彦 ,  今村健吾

IPC分类号： B24D11/00 ,  B24B37/04 ,  B24D13/14

CPC分类号： B24D3/28 ,  B24B37/26

摘要： 公开了一种具有底材(12)和置于其上的研磨层的化学机械抛光用研磨垫。一种研磨垫，它具有底材和置于该底材上的研磨层，所述研磨层具有三维结构，该三维结构包括许多个规则排列的具有预定形状的三维元件(11)，所述研磨层包含研磨复合物，该复合物含有用化学气相淀积方法制得的高级氧化铝磨粒和粘合剂作为结构组分。