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公开(公告)号：CN105372210A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201510510374.2
申请日：2015-08-19
申请人： ABB技术有限公司
发明人： J.L.M.范梅彻伦 , B.帕内拉 , M.V.加西亚 , R.J.维斯特瓦亚尔 , B.达姆
摘要： 本公开涉及氢传感器、氢检测系统以及具有氢检测系统的电气装置。提供一种用于检测与传感器物理接触的流体中的氢的光学传感器。该传感器包括光纤，其中光纤的端部涂敷有多层，其包括：感测层，包括合金膜，合金包括Mg、Ni和M，其中M是Zr、Ta和Hf中的至少一个，并且其中合金具有组成MgxNiyMz，并且其中x从40至60，y从10至40，z从10至40；以及包括Pd的催化层。此外，提供包括这种光学传感器的用于氢的检测系统以及具有这种检测系统的电气装置。
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公开(公告)号：CN104807496A
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201510039912.4
申请日：2015-01-27
申请人： ABB技术有限公司
发明人： J.L.M.范梅彻伦 , H.梅博德
IPC分类号： G01D21/02
CPC分类号： G01J5/10 , G01B11/0625 , G01B11/0683 , G01J5/58 , G01N21/3563
摘要： 本发明题为用于表征被涂覆主体的传感器系统和方法。提供一种通过基于与物理模型的拟合的至少一个涂敷参数来表征被涂覆主体的方法。该方法由传感器系统按照非接触方式来执行，传感器系统包括：发射器系统，用于发射THz辐射；检测器系统，用于检测THz辐射；以及处理单元，操作上耦合到发射器系统和检测器系统。该方法包括：由发射器系统将THz辐射信号发射到被涂覆主体；由检测器系统检测作为与聚合涂敷相互作用的所检测THz辐射信号的响应信号；通过优化模型参数来确定物理模型的模型参数；从所确定模型参数来确定至少一个涂敷参数，其中至少一个涂敷参数包括聚合涂敷的厚度。
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公开(公告)号：CN104998801A
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201510040178.3
申请日：2015-01-27
申请人： ABB技术有限公司
发明人： J.L.M.范梅彻伦 , H.梅博伦
CPC分类号： G01N33/32 , B05B12/084 , G01B11/0625 , G01B11/0683 , G01B15/02 , G01N21/55 , G01N21/59 , G01N2201/06113 , G01N2201/0697
摘要： 本发明题为具有用于由THz辐射表征涂覆的传感器系统的涂覆机构。涂覆机构包括：涂覆单元，用于将涂覆层施加到主体(2)；以及传感器系统，用于表征主体(2)的涂覆(4)。传感器系统包括THz系统(1)、处理单元(30)和定位系统(40)。THz系统(1)包括：光源(50)，用于生成源光辐射；柔性第一辐射引导线缆(51)，用于传送源光辐射；THz发射器(10)，包括THz辐射生成器(12)和THz光学系统(14)；以及THz检测器(20)。定位系统(40)包括携带THz发射器(10)的活动单元(42)。光源(50)设置在活动单元(42)外部。处理单元(30)在操作上耦合到THz检测器(20)。
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公开(公告)号：CN104807496B
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：CN201510039912.4
申请日：2015-01-27
申请人： ABB 技术有限公司
发明人： J.L.M.范梅彻伦 , H.梅博德
IPC分类号： G01D21/02
CPC分类号： G01J5/10 , G01B11/0625 , G01B11/0683 , G01J5/58 , G01N21/3563
摘要： 本发明题为用于表征被涂覆主体的传感器系统和方法。提供一种通过基于与物理模型的拟合的至少一个涂敷参数来表征被涂覆主体的方法。该方法由传感器系统按照非接触方式来执行，传感器系统包括：发射器系统，用于发射THz辐射；检测器系统，用于检测THz辐射；以及处理单元，操作上耦合到发射器系统和检测器系统。该方法包括：由发射器系统将THz辐射信号发射到被涂覆主体；由检测器系统检测作为与聚合涂敷相互作用的所检测THz辐射信号的响应信号；通过优化模型参数来确定物理模型的模型参数；从所确定模型参数来确定至少一个涂敷参数，其中至少一个涂敷参数包括聚合涂敷的厚度。
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