公开(公告)号：CN103181239B

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：CN201180051015.5

申请日：2011-10-06

申请人： ALD真空工业股份公司

发明人： 拉尔夫·厄勒 ,  哈拉尔德·斯科尔茨 ,  弗兰克-韦纳·霍夫曼

IPC分类号： H05B7/148

CPC分类号： H05B7/152 ,  H05B7/148 ,  Y02P10/256 ,  Y02P10/259

摘要： 本发明涉及一种用于闭环控制在真空电弧炉（10）中的电极间距的方法以及设备，其中根据熔滴短路率闭环控制熔化电极的相对于熔化物的表面的电极间距。为此，基于至少一个熔滴短路标准（76）建立被探测的熔滴短路（80）的柱状图（70），所述柱状图（70）被划分为子区域（72），为了闭环控制目的，选择柱状图（70）的表示特征的子区域（74），并且基于能与被选择的子区域（74）相关联的熔滴短路（80）闭环控制电极间距。

公开(公告)号：CN103181239A

公开(公告)日：2013-06-26

申请号：CN201180051015.5

申请日：2011-10-06

申请人： ALD真空工业股份公司

发明人： 拉尔夫·厄勒 ,  哈拉尔德·斯科尔茨 ,  弗兰克-韦纳·霍夫曼

IPC分类号： H05B7/148

CPC分类号： H05B7/152 ,  H05B7/148 ,  Y02P10/256 ,  Y02P10/259

摘要： 本发明涉及一种用于闭环控制在真空电弧炉（10）中的电极间距的方法以及设备，其中根据熔滴短路率闭环控制熔化电极的相对于熔化物的表面的电极间距。为此，基于至少一个熔滴短路标准（76）建立被探测的熔滴短路（80）的柱状图（70），所述柱状图（70）被划分为子区域（72），为了闭环控制目的，选择柱状图（70）的表示特征的子区域（74），并且基于能与被选择的子区域（74）相关联的熔滴短路（80）闭环控制电极间距。

公开(公告)号：CN103180683A

公开(公告)日：2013-06-26

申请号：CN201180051021.0

申请日：2011-10-06

申请人： ALD真空工业股份公司

发明人： 拉尔夫·厄勒 ,  哈拉尔德·斯科尔茨 ,  弗兰克-韦纳·霍夫曼

IPC分类号： F27D11/10 ,  F27D19/00 ,  F27D21/00 ,  C21C5/52 ,  H05B7/144 ,  H05B7/148

CPC分类号： G05B23/0205 ,  C22B9/20 ,  F27D11/10 ,  F27D21/00 ,  F27D2019/0037 ,  H05B7/144 ,  H05B7/148 ,  Y02P10/256 ,  Y02P10/259

摘要： 本发明涉及用于在冶金电重熔法中将电源网络干扰（84）从电极信号（82）中滤除的方法和设备（40），尤其是用于熔炉（10）的电极距离闭环控制系统（48）的电极距离闭环控制。所述设备为此包括：至少一个电极传感器装置，所述电极传感器装置用于测量电极信号（82），尤其是电极（30）的电极电流和/或电极电压；网络传感器装置（46），所述网络传感器装置用于测量网络信号，尤其是网络电流和/或网络电压；以及滤波装置（50），所述滤波装置用于将网络信号的网络干扰（84）从电极信号（82）中滤除，使得能够输出抑制网络干扰的电极信号（80）。