公开(公告)号：CN111164514B

公开(公告)日：2023-01-17

申请号：CN201880063039.4

申请日：2018-09-14

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： P·V·凯尔卡 ,  J·L·克鲁泽

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种检查装置，包括光学系统，其被配置为向待测表面提供辐射的束并且从该表面接收重定向的辐射；以及检测系统，其被配置为测量重定向的辐射，其中光学系统包括用于处理辐射的光学元件，该光学元件包括被配置为产生辐射的减小的色偏的Mac Neille型多层偏振涂层。

公开(公告)号：CN111819498A

公开(公告)日：2020-10-23

申请号：CN201980017312.4

申请日：2019-02-07

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： P·V·凯尔卡

IPC: G03F7/20 ,  G02B1/118

Abstract: 一种设置有抗反射涂层的衬底(50)，其中抗反射涂层由纳米结构层(52)组成。纳米结构可以通过如下方式来形成：沉积诸如SiO2等材料，并且然后使用与电感耦合等离子体源相结合的诸如反应离子蚀刻等工艺。还公开了制造工艺的其他方面。

公开(公告)号：CN111164514A

公开(公告)日：2020-05-15

申请号：CN201880063039.4

申请日：2018-09-14

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： P·V·凯尔卡 ,  J·L·克鲁泽

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种检查装置，包括光学系统，其被配置为向待测表面提供辐射的束并且从该表面接收重定向的辐射；以及检测系统，其被配置为测量重定向的辐射，其中光学系统包括用于处理辐射的光学元件，该光学元件包括被配置为产生辐射的减小的色偏的Mac Neille型多层偏振涂层。