公开(公告)号：CN107003624B

公开(公告)日：2018-11-06

申请号：CN201580068285.5

申请日：2015-11-19

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： Y·K·斯玛雷弗 ,  S·斯米尔诺夫

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种检查设备可以使用光瞳对称化器确定衬底上目标的精确OV测量值以减小检查设备对于光瞳面中照射光束的非对称性和非均匀性的敏感性。检查设备包括照射系统，其通过(1)分割照射束为子光束，(2)引导子光束沿着不同光学分支，(3)在两个维度中反转或旋转至少一个子光束，并且沿着照射路径重新组合子光束以对称化强度分布，从而形成了对称照射光瞳。进一步配置照射系统以使得第一子光束和第二子光束具有大于至少一个光源的时间相干性长度并小于物镜光学系统的光瞳面中焦深的光程差。

公开(公告)号：CN107003624A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：CN201580068285.5

申请日：2015-11-19

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： Y·K·斯玛雷弗 ,  S·斯米尔诺夫

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70133 ,  G01N21/4738 ,  G01N2201/061 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/068 ,  G02B5/04 ,  G02B27/106 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70208

Abstract: 一种检查设备可以使用光瞳对称化器确定衬底上目标的精确OV测量值以减小检查设备对于光瞳面中照射光束的非对称性和非均匀性的敏感性。检查设备包括照射系统，其通过(1)分割照射束为子光束，(2)引导子光束沿着不同光学分支，(3)在两个维度中反转或旋转至少一个子光束，并且沿着照射路径重新组合子光束以对称化强度分布，从而形成了对称照射光瞳。进一步配置照射系统以使得第一子光束和第二子光束具有大于至少一个光源的时间相干性长度并小于物镜光学系统的光瞳面中焦深的光程差。