公开(公告)号：CN113728277B

公开(公告)日：2025-03-28

申请号：CN202080031372.4

申请日：2020-04-14

Applicant: ASML控股股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： J·纳斯 ,  K·K·南卡拉 ,  T·R·唐尼 ,  J·H·莱昂斯 ,  O·昂鲁希萨西克利 ,  A·H·勒德贝特 ,  N·S·阿蓬 ,  T·甘

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种用以调节光刻装置中的束的交叉狭槽照射的照射调节装置包括多个指状物来调节交叉狭槽照射以符合选定的强度分布。每个指状物具有包括至少两个段的远端边缘。两个段形成远端边缘的凹痕。

公开(公告)号：CN113728277A

公开(公告)日：2021-11-30

申请号：CN202080031372.4

申请日：2020-04-14

Applicant: ASML控股股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： J·纳斯 ,  K·K·南卡拉 ,  T·R·唐尼 ,  J·H·莱昂斯 ,  O·昂鲁希萨西克利 ,  A·H·勒德贝特 ,  N·S·阿蓬 ,  T·甘

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种用以调节光刻装置中的束的交叉狭槽照射的照射调节装置包括多个指状物来调节交叉狭槽照射以符合选定的强度分布。每个指状物具有包括至少两个段的远端边缘。两个段形成远端边缘的凹痕。