公开(公告)号：CN107111248A

公开(公告)日：2017-08-29

申请号：CN201580071474.8

申请日：2015-12-02

申请人： ASML控股股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

发明人： T·本图里诺 ,  G·舒尔茨 ,  D·N·加尔布勒特 ,  D·N·伯班克 ,  S·E·德尔皮于尔特 ,  H·沃格尔 ,  约翰内斯·昂伍李 ,  L·J·A·凡鲍克霍文 ,  C·C·沃德

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 一种通过供应非均匀的气流冷却图案形成装置的设备、系统和方法。该设备和系统包括供应横跨图案形成装置的第一表面的气流的气体供应结构。该气体供应结构包括专门配置成用于产生非均匀气流分布的气体供应喷嘴。将较大体积或速度的气流引导至该图案形成装置的期望部分。

公开(公告)号：CN107111248B

公开(公告)日：2019-10-18

申请号：CN201580071474.8

申请日：2015-12-02

申请人： ASML控股股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

发明人： T·本图里诺 ,  G·舒尔茨 ,  D·N·加尔布勒特 ,  D·N·伯班克 ,  S·E·德尔皮于尔特 ,  H·沃格尔 ,  约翰内斯·昂伍李 ,  L·J·A·凡鲍克霍文 ,  C·C·沃德

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 一种通过供应非均匀的气流冷却图案形成装置的设备、系统和方法。该设备和系统包括供应横跨图案形成装置的第一表面的气流的气体供应结构。该气体供应结构包括专门配置成用于产生非均匀气流分布的气体供应喷嘴。将较大体积或速度的气流引导至该图案形成装置的期望部分。