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公开(公告)号：CN102483582B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201080037150.X
申请日：2010-08-05
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F7/70616
摘要： 一种量测设备布置成以离轴照射模式照射多个目标。仅利用一个第一级衍射束获得目标的图像。在目标是复合光栅的情况下，可以根据不同光栅的图像的强度获得重叠测量。重叠测量可以被针对于由光栅在像场中的位置变化引起的误差进行校正。
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公开(公告)号：CN104350424B
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201380027929.7
申请日：2013-05-01
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70625 , G03F7/70483 , G03F7/70633 , G03F7/70683
摘要： 一种通过光刻过程形成在衬底上的量测目标包括多个分量光栅。使用被分量光栅衍射的辐射的+1和‑1级形成目标的图像。在被检测的图像中的感兴趣的区域(ROIs)对应于分量光栅被识别。在每个ROI内的强度值被处理并且在图像之间被比较，以获得不对称度的测量结果，并因此获得重叠误差的测量结果。分隔区形成在分量光栅之间，并且被设计成提供图像中的暗区域。在一实施例中，ROI被选择成它们的边界落入与分隔区相对应的图像区域中。通过这样的措施，不对称度测量对ROI的位置的变化有更大的容许度。暗区域也帮助识别图像中的目标。
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公开(公告)号：CN102483582A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080037150.X
申请日：2010-08-05
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F7/70616
摘要： 一种量测设备布置成以离轴照射模式照射多个目标。仅利用一个第一级衍射束获得目标的图像。在目标是复合光栅的情况下，可以根据不同光栅的图像的强度获得重叠测量。重叠测量可以被针对于由光栅在像场中的位置变化引起的误差进行校正。
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公开(公告)号：CN104350424A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201380027929.7
申请日：2013-05-01
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70625 , G03F7/70483 , G03F7/70633 , G03F7/70683
摘要： 一种通过光刻过程形成在衬底上的量测目标包括多个分量光栅。使用被分量光栅衍射的辐射的+1和-1级形成目标的图像。在被检测的图像中的感兴趣的区域(ROIs)对应于分量光栅被识别。在每个ROI内的强度值被处理并且在图像之间被比较，以获得不对称度的测量结果，并因此获得重叠误差的测量结果。分隔区形成在分量光栅之间，并且被设计成提供图像中的暗区域。在一实施例中，ROI被选择成它们的边界落入与分隔区相对应的图像区域中。通过这样的措施，不对称度测量对ROI的位置的变化有更大的容许度。暗区域也帮助识别图像中的目标。
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