公开(公告)号：CN106507684A

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：CN201580031670.2

申请日：2015-05-12

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： A·A·范伯兹康 ,  J·A·M·阿尔贝蒂 ,  H·M·塞热 ,  R·范德含 ,  F·法尼 ,  R·奥利斯拉格斯 ,  G·彼得斯 ,  C·M·诺普斯 ,  P·范德艾登 ,  P·范栋恩 ,  B·威廉

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 一种光刻设备包括：衬底台、曝光后处理模块、衬底处理机器人及干燥站。所述衬底台被配置成支撑衬底用于曝光过程。所述曝光后处理模块是用于在曝光后处理所述衬底。所述衬底处理机器人被配置成将所述衬底从所述衬底台沿着衬底卸载路径转移至所述曝光后处理模块中。所述干燥站被配置成从所述衬底的表面主动地移除液体。所述干燥站定位于所述衬底卸载路径中。所述干燥站定位于所述曝光后处理模组中。所述曝光后处理模块可以是晶片处理器。

公开(公告)号：CN110941151A

公开(公告)日：2020-03-31

申请号：CN201911298755.3

申请日：2015-05-12

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： A·A·范伯兹康 ,  J·A·M·阿尔贝蒂 ,  H·M·塞热 ,  R·范德含 ,  F·法尼 ,  R·奥利斯拉格斯 ,  G·彼得斯 ,  C·M·诺普斯 ,  P·范德艾登 ,  P·范栋恩 ,  B·威廉

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 一种光刻设备包括：衬底台、曝光后处理模块、衬底处理机器人及干燥站。所述衬底台被配置成支撑衬底用于曝光过程。所述曝光后处理模块是用于在曝光后处理所述衬底。所述衬底处理机器人被配置成将所述衬底从所述衬底台沿着衬底卸载路径转移至所述曝光后处理模块中。所述干燥站被配置成从所述衬底的表面主动地移除液体。所述干燥站定位于所述衬底卸载路径中。所述干燥站定位于所述曝光后处理模组中。所述曝光后处理模块可以是晶片处理器。

公开(公告)号：CN106507684B

公开(公告)日：2020-01-10

申请号：CN201580031670.2

申请日：2015-05-12

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： A·A·范伯兹康 ,  J·A·M·阿尔贝蒂 ,  H·M·塞热 ,  R·范德含 ,  F·法尼 ,  R·奥利斯拉格斯 ,  G·彼得斯 ,  C·M·诺普斯 ,  P·范德艾登 ,  P·范栋恩 ,  B·威廉

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 一种光刻设备包括：衬底台、曝光后处理模块、衬底处理机器人及干燥站。所述衬底台被配置成支撑衬底用于曝光过程。所述曝光后处理模块是用于在曝光后处理所述衬底。所述衬底处理机器人被配置成将所述衬底从所述衬底台沿着衬底卸载路径转移至所述曝光后处理模块中。所述干燥站被配置成从所述衬底的表面主动地移除液体。所述干燥站定位于所述衬底卸载路径中。所述干燥站定位于所述曝光后处理模组中。所述曝光后处理模块可以是晶片处理器。