公开(公告)号：CN106537257B

公开(公告)日：2019-12-31

申请号：CN201580039206.8

申请日：2015-06-26

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： T·W·波勒特 ,  J·J·M·巴塞曼斯 ,  W·J·鲍曼 ,  H·H·A·勒姆蓬斯 ,  T·M·莫德曼 ,  C·M·洛普斯 ,  B·斯密兹 ,  K·斯蒂芬斯 ,  R·范德汉姆

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 公开了光刻设备和器件制造方法。在一个布置中，提供了包括投影系统(PS)的浸没式光刻设备。投影系统被配置成将经图案化的辐射束通过浸没液体投影到衬底的目标部分上。投影系统的外表面包括第一表面(102)。第一表面具有非平面形状。元件(106)被附接至第一表面并且被定位成使得元件的至少一部分在使用中接触浸没液体。元件包括处于预成型状态且符合第一表面的非平面形状的连续整体材料的闭合环。

公开(公告)号：CN111971623A

公开(公告)日：2020-11-20

申请号：CN201980025794.8

申请日：2019-03-13

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 于淼 ,  P·M·G·J·阿蒂斯 ,  E·H·E·C·尤梅伦 ,  G·L·加托比吉奥 ,  M·霍尔特拉斯特 ,  H·H·A·勒姆蓬斯 ,  F·梅格海尔布林克 ,  T·W·波勒特 ,  G·塔纳萨

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 一种用于处理生产衬底的设备的清洁装置，所述清洁装置包括：实体，具有与所述生产衬底相似或相同的尺寸，使得所述清洁装置与所述设备兼容，所述主体具有第一主表面和朝向与第一主表面相反的方向的第二主表面；所述主体内的腔室，被配置用以容纳污染物；从所述第一主表面到所述腔室的入口，被配置成允许通过流体流将污染物抽吸入所述腔室；以及从所述腔室到所述第二主表面的出口，所述清洁装置被配置成允许流体离开所述腔室，但阻止污染物离开所述腔室。

公开(公告)号：CN106537257A

公开(公告)日：2017-03-22

申请号：CN201580039206.8

申请日：2015-06-26

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： T·W·波勒特 ,  J·J·M·巴塞曼斯 ,  W·J·鲍曼 ,  H·H·A·勒姆蓬斯 ,  T·M·莫德曼 ,  C·M·洛普斯 ,  B·斯密兹 ,  K·斯蒂芬斯 ,  R·范德汉姆

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 公开了光刻设备和器件制造方法。在一个布置中，提供了包括投影系统(PS)的浸没式光刻设备。投影系统被配置成将经图案化的辐射束通过浸没液体投影到衬底的目标部分上。投影系统的外表面包括第一表面(102)。第一表面具有非平面形状。元件(106)被附接至第一表面并且被定位成使得元件的至少一部分在使用中接触浸没液体。元件包括处于预成型状态且符合第一表面的非平面形状的连续整体材料的闭合环。