公开(公告)号：CN115598920A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202211277895.4

申请日：2016-12-02

申请人： ASML荷兰有限公司(NL) ,  ASML控股股份有限公司(NL)

发明人： D·F·弗莱斯 ,  E·A·阿贝格 ,  A·本迪克塞 ,  德克·S·G·布龙 ,  P·K·果维欧 ,  保罗·詹森 ,  M·A·纳萨莱维奇 ,  A·W·诺滕博姆 ,  玛丽亚·皮特 ,  M·A·范德柯克霍夫 ,  威廉·琼·范德赞德 ,  彼得-詹·范兹沃勒 ,  J·P·M·B·沃缪伦 ,  W-P·福尔蒂森 ,  J·N·威利

IPC分类号： G03F1/22 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F7/20

摘要： 一种适合与用于光刻设备的图案形成装置一起使用的表膜。所述表膜包括至少一个破裂区域，配置成在光刻设备中的正常使用期间在表膜的剩余区域破裂之前优先破裂。至少一个破裂区域包括表膜的在与表膜的周围区域相比时具有减小的厚度的区域。