公开(公告)号：CN102597316A

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN201080046136.6

申请日：2010-09-02

Applicant: BENEQ有限公司

Inventor： M·拉加拉 ,  J·蒂卡宁

IPC: C23C16/52 ,  C03C17/00 ,  C23C16/455 ,  C23C4/00 ,  C23C14/52 ,  C23C14/54 ,  B05D1/10 ,  B05D1/02 ,  G01N15/02

CPC classification number: C23C4/00 ,  C03C17/002 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/4486 ,  C23C16/45544

Abstract: 用于控制涂覆沉积工艺的方法和设备，其中至少在涂覆沉积工艺的一个阶段，涂覆前体中的至少一种包含气体、蒸气或气溶胶。该方法包括监测超细颗粒和根据该监测调节至少一个工艺参数。所述设备包含用于监测超细颗粒的装置(13)和用于根据该监测调节至少一个工艺参数的装置(14)。

公开(公告)号：CN102597316B

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201080046136.6

申请日：2010-09-02

Applicant: BENEQ有限公司

Inventor： M·拉加拉 ,  J·蒂卡宁

IPC: C23C16/52 ,  C03C17/00 ,  C23C16/455 ,  C23C4/00 ,  C23C14/52 ,  C23C14/54 ,  B05D1/10 ,  B05D1/02 ,  G01N15/02

CPC classification number: C23C4/00 ,  C03C17/002 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/4486 ,  C23C16/45544

Abstract: 用于控制涂覆沉积工艺的方法和设备，其中至少在涂覆沉积工艺的一个阶段，涂覆前体中的至少一种包含气体、蒸气或气溶胶。该方法包括监测超细颗粒和根据该监测调节至少一个工艺参数。所述设备包含用于监测超细颗粒的装置(13)和用于根据该监测调节至少一个工艺参数的装置(14)。