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公开(公告)号:CN105492893B
公开(公告)日:2019-04-16
申请号:CN201480047199.1
申请日:2014-06-30
Applicant: D.施华洛世奇两合公司
Inventor: K·艾德
IPC: G01N21/87
Abstract: 本发明涉及一种用于分析通过在宝石(2)上折射和反射引起的光图案(3)的装置(1),其包括:用于照射宝石(2)的光源(4),用于保持宝石(2)的保持装置(5),用于成像光图案(3)的散射屏(6),和用于拍摄在散射屏(6)上成像的光图案(3)的照相机(7),其中,所述装置(1)包括半透明的光学元件(8),该光学元件用于使由光源(4)发出的光(9)朝向宝石(2)转向并且透射在宝石(2)上折射和反射的光(10),由光源(4)发出的光(9)具有在0.1°至0.4°之间的发散半角和具有带有来自可见光范围的多个不同波长的光谱。
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公开(公告)号:CN102669897A
公开(公告)日:2012-09-19
申请号:CN201210062752.1
申请日:2012-03-07
Applicant: D.施华洛世奇两合公司
IPC: A44C17/00
CPC classification number: A44C17/001 , A44C17/007
Abstract: 带有水钻式打磨结构的宝石,在该宝石中,冠部的相对于台面在周围倾斜向下的刻面连接于该冠部的平坦的台面,这些刻面延伸至腰围,所述宝石在该腰围处具有最大的横向尺寸,其中,在所述腰围的下方连接有亭部,该亭部由优选尖锐地会聚到一起的刻面形成,其中,所述宝石至少大部分、优选完全由玻璃构成,其中,冠部角(α)的大小是在40.5°和42.5°之间。
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公开(公告)号:CN102669897B
公开(公告)日:2015-01-07
申请号:CN201210062752.1
申请日:2012-03-07
Applicant: D.施华洛世奇两合公司
IPC: A44C17/00
CPC classification number: A44C17/001 , A44C17/007
Abstract: 带有水钻式打磨结构的宝石,在该宝石中,冠部的相对于台面在周围倾斜向下的刻面连接于该冠部的平坦的台面,这些刻面延伸至腰围,所述宝石在该腰围处具有最大的横向尺寸,其中,在所述腰围的下方连接有亭部,该亭部由优选尖锐地会聚到一起的刻面形成,其中,所述宝石至少大部分、优选完全由玻璃构成,其中,冠部角(α)的大小是在40.5°和42.5°之间。
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公开(公告)号:CN105492893A
公开(公告)日:2016-04-13
申请号:CN201480047199.1
申请日:2014-06-30
Applicant: D.施华洛世奇两合公司
Inventor: K·艾德
IPC: G01N21/87
CPC classification number: G01N21/87 , G01N21/4788 , G01N21/55 , G01N2201/061 , G01N2201/0634
Abstract: 用于分析通过在宝石(2)上折射和反射引起的光图案(3)的装置(1)包括:用于照射宝石(2)的光源(4),用于保持宝石(2)的保持装置(5),用于成像光图案(3)的散射屏(6)、特别是扁平的散射屏,和用于拍摄在散射屏(6)上成像的光图案(3)的照相机(7),其中,所述装置(1)包括半透明的光学元件(8),该光学元件用于使由光源(4)发出的光(9)朝向宝石(2)转向并且透射在宝石(2)上折射和反射的光(10)。
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