用于对准真空中的光学元件或样品的调节系统

    公开(公告)号:CN107076956B

    公开(公告)日:2018-07-10

    申请号:CN201480081977.9

    申请日:2014-09-23

    IPC分类号: G02B7/00 G03F7/20 B25J9/00

    CPC分类号: G02B7/1827 G02B7/005 G02B7/20

    摘要: 一种调节系统,用于对准用于投射处于高达硬X射线范围的太赫兹范围内的电子辐射的真空中的光学元件和/或样品,包括:至少一个真空室、沿空间方向可调节的至少一个反射镜和/或光学元件或样品,其中设置有处于未偏转状态的平移致动器用于在最多三个基本相互垂直的空间方向调节至少一个反射镜和/或光学元件或样品的对准。所述真空室中的至少一个反射镜和/或光学元件或样品相对于所述真空室安装在固定位置,其中所述真空室直接或间接地与所述平移致动器相连接以用于对准所述反射镜和/或所述光学元件或所述样品的空间位置。该构造有助于真空室的非常紧凑和小巧的设计,并且实现了非常高精度的对准。

    用于对准真空中的光学元件或样品的调节系统

    公开(公告)号:CN107076956A

    公开(公告)日:2017-08-18

    申请号:CN201480081977.9

    申请日:2014-09-23

    IPC分类号: G02B7/00 G03F7/20 B25J9/00

    CPC分类号: G02B7/1827 G02B7/005 G02B7/20

    摘要: 本发明涉及一种调节系统(3),用于对准用于投射处于高达硬X射线范围的太赫兹范围内的电子辐射的真空中的光学元件和/或样品,所述调节系统包括:至少一个真空室(3”)、沿空间方向可调节的至少一个反射镜(3’)和/或沿空间方向可调节的至少一个光学元件或沿空间方向可调节的至少一个样品,其中设置有处于未偏转状态(空闲状态)的平移致动器(X1、X2、Z1、Z2、Z3)用于在最多三个基本相互垂直的空间方向(X、Y、Z、y、y、z)调节沿空间方向可调节的至少一个反射镜(3’)和/或沿空间方向可调节的至少一个光学元件或沿空间方向可调节的至少一个样品的对准。根据本发明,所述真空室(3”)中的沿空间方向(X、Y、Z、y、y、z)可调节的至少一个反射镜(3’)和/或沿空间方向(X、Y、Z、y、y、z)可调节的至少一个光学元件或样品相对于所述真空室(3”)安装在固定位置,其中所述真空室(3”)直接或间接地与所述平移致动器(X1、X2、Z1、Z2、Z3)相连接以用于对准所述反射镜和/或所述光学元件或所述样品的空间位置。该构造有助于真空室的非常紧凑和小巧的设计,并且实现了非常高精度的对准。