公开(公告)号：CN1303153C

公开(公告)日：2007-03-07

申请号：CN03132893.8

申请日：2003-07-25

Applicant: H.C.施塔克股份有限公司 ,  长濑产业株式会社 ,  长濑化成株式会社

Inventor： S·柯希迈尔 ,  K·武索 ,  T·霍索米 ,  Y·基库萨

IPC: C08L41/00 ,  C09D141/00

CPC classification number: C09D5/24 ,  C08G61/126 ,  C09D165/00 ,  H01G9/028 ,  H01G11/48 ,  H01G11/56 ,  Y02E60/13

Abstract: 提供了一种用于生产导电膜的水分散体。所述水分散体含有聚(3，4-二烷氧基噻吩)和一种聚阴离子的复合物，其是在聚阴离子存在下在含水溶剂中将3，4-二烷氧基噻吩聚合而生产的，其中聚合反应使用过二硫酸作为氧化剂或者使用一种氧化剂和用于降低反应混合物的pH的酸。

公开(公告)号：CN1488671A

公开(公告)日：2004-04-14

申请号：CN03132893.8

申请日：2003-07-25

Applicant: H.C.施塔克股份有限公司 ,  长濑产业株式会社 ,  长濑化成株式会社

Inventor： S·柯希迈尔 ,  K·武索 ,  T·霍索米 ,  Y·基库萨

IPC: C08L41/00 ,  C09D141/00

CPC classification number: C09D5/24 ,  C08G61/126 ,  C09D165/00 ,  H01G9/028 ,  H01G11/48 ,  H01G11/56 ,  Y02E60/13

Abstract: 提供了一种用于生产导电膜的水分散体。所述水分散体含有聚(3，4－二烷氧基噻吩)和一种聚阴离子的复合物，其是在聚阴离子存在下在含水溶剂中将3，4－二烷氧基噻吩聚合而生产的，其中聚合反应使用过焦硫酸作为氧化剂或者使用一种氧化剂和用于降低反应混合物的pH的酸。