图案描绘方法、光掩模及其制造方法、显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN110007555B

    公开(公告)日:2022-07-08

    申请号:CN201811530914.3

    申请日:2018-12-14

    Inventor: 金谷健一

    Abstract: 本发明涉及图案描绘方法、光掩模的制造方法、光掩模、以及显示装置的制造方法。降低图案CD的变动,得到稳定的成品率。图案描绘方法包括:校正工序,依据预先求出的校正值来校正设计图案数据,从而得到校正图案数据,该校正值以使通过对光掩模进行曝光而在被转印体上得到的孔/点图案的CD与目标值相等的方式求出;以及描绘工序,应用校正图案数据,利用描绘装置来进行描绘。描绘装置在与光掩模基板面平行的面内,在X方向和与X方向垂直的Y方向上通过CD控制精度不同的驱动方式被驱动。在校正工序中,通过在设计图案数据中对孔/点图案的CD进行如下校正而得到校正图案数据,在该校正中,使在X方向和Y方向中的CD控制精度较高的方向上的CD变更。

    图案描绘方法、光掩模及其制造方法、显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN110007555A

    公开(公告)日:2019-07-12

    申请号:CN201811530914.3

    申请日:2018-12-14

    Inventor: 金谷健一

    Abstract: 本发明涉及图案描绘方法、光掩模的制造方法、光掩模、以及显示装置的制造方法。降低图案CD的变动,得到稳定的成品率。图案描绘方法包括:校正工序,依据预先求出的校正值来校正设计图案数据,从而得到校正图案数据,该校正值以使通过对光掩模进行曝光而在被转印体上得到的孔/点图案的CD与目标值相等的方式求出;以及描绘工序,应用校正图案数据,利用描绘装置来进行描绘。描绘装置在与光掩模基板面平行的面内,在X方向和与X方向垂直的Y方向上通过CD控制精度不同的驱动方式被驱动。在校正工序中,通过在设计图案数据中对孔/点图案的CD进行如下校正而得到校正图案数据,在该校正中,使在X方向和Y方向中的CD控制精度较高的方向上的CD变更。

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