公开(公告)号：CN105074823B

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201480017936.3

申请日：2014-03-31

Applicant: HOYA株式会社 ,  HOYA玻璃磁盘越南第二公司

Inventor： 越阪部基延 ,  德光秀造 ,  山城祐治 ,  竹内亮太郎

IPC: G11B5/84 ,  G11B5/73

Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该方法即便在使用HDI传感器的情况下，也能够降低可引起磁头碰撞的异物缺陷。本发明包括下述研磨处理：使包含胶态二氧化硅的研磨液和研磨垫与玻璃基板的表面接触，对玻璃基板表面进行镜面研磨。作为研磨液，选择不含有含Al、Si和O的各元素的异物的研磨液，在将玻璃基板作成磁盘并用磁头进行记录再生时，上述各元素可抑制记录再生；利用该研磨液进行研磨处理。

公开(公告)号：CN105074823A

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：CN201480017936.3

申请日：2014-03-31

Applicant: HOYA株式会社 ,  HOYA玻璃磁盘越南第二公司

Inventor： 越阪部基延 ,  德光秀造 ,  山城祐治 ,  竹内亮太郎

IPC: G11B5/84 ,  G11B5/73

CPC classification number: G11B5/8404

Abstract: 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该方法即便在使用HDI传感器的情况下，也能够降低可引起磁头碰撞的异物缺陷。本发明包括下述研磨处理：使包含胶态二氧化硅的研磨液和研磨垫与玻璃基板的表面接触，对玻璃基板表面进行镜面研磨。作为研磨液，选择不含有含Al、Si和O的各元素的异物的研磨液，在将玻璃基板作成磁盘并用磁头进行记录再生时，上述各元素可抑制记录再生；利用该研磨液进行研磨处理。

公开(公告)号：CN106716532B

公开(公告)日：2019-07-02

申请号：CN201580050188.3

申请日：2015-10-14

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 岩间健太 ,  竹内亮太郎

IPC: G11B5/84

CPC classification number: G11B5/84

Abstract: 提高磁盘用基板的研磨处理后的成品率。使作为对基板的主表面进行研磨的研磨处理中所用的研磨液的原料的浆料通过过滤器，该过滤器由疏水性高分子材料构成，开口直径为100nm以下。使用通过过滤器将浆料中包含的粒径大于磨粒的平均粒径的颗粒除去后的研磨液来进行研磨处理。

公开(公告)号：CN106716532A

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201580050188.3

申请日：2015-10-14

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 岩间健太 ,  竹内亮太郎

IPC: G11B5/84

CPC classification number: G11B5/84

Abstract: 提高磁盘用基板的研磨处理后的成品率。使作为对基板的主表面进行研磨的研磨处理中所用的研磨液的原料的浆料通过过滤器，该过滤器由疏水性高分子材料构成，开口直径为100nm以下。使用通过过滤器将浆料中包含的粒径大于磨粒的平均粒径的颗粒除去后的研磨液来进行研磨处理。