公开(公告)号：CN106019817A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201610173066.X

申请日：2016-03-24

Applicant: HOYA株式会社 ,  HOYA电子马来西亚有限公司

Inventor： 牛田正男 ,  坪井诚治 ,  安森顺一 ,  阿山兼士

IPC: G03F1/50

Abstract: 本发明提供一种光掩模空白片、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法，上述光掩模空白片成为图案截面的形状近似垂直而适合转印特性和微细化、且即使以高曝光量(高剂量)进行转印也可使转印缺陷少的光掩模，上述光掩模的制造方法具有上述特性，上述显示装置的制造方法以高成品率制造高精细显示装置。上述光掩模空白片在透明基板上层叠有遮光层和反射降低层，遮光层由多层层叠膜以蚀刻速度从遮光层表面向透明基板阶段性或连续性地加快的方式构成，该遮光层中的形成于基板侧的下层部在436nm波长下的光学浓度为1.0以上。此外，上述光掩模的制造方法使用该光掩模空白片制造光掩模。并且，上述显示装置的制造方法使用该光掩模制造显示装置。

公开(公告)号：CN106019817B

公开(公告)日：2020-05-26

申请号：CN201610173066.X

申请日：2016-03-24

Applicant: HOYA株式会社 ,  HOYA电子马来西亚有限公司

Inventor： 牛田正男 ,  坪井诚治 ,  安森顺一 ,  阿山兼士

IPC: G03F1/50

Abstract: 本发明提供一种光掩模空白片、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法，上述光掩模空白片成为图案截面的形状近似垂直而适合转印特性和微细化、且即使以高曝光量(高剂量)进行转印也可使转印缺陷少的光掩模，上述光掩模的制造方法具有上述特性，上述显示装置的制造方法以高成品率制造高精细显示装置。上述光掩模空白片在透明基板上层叠有遮光层和反射降低层，遮光层由多层层叠膜以蚀刻速度从遮光层表面向透明基板阶段性或连续性地加快的方式构成，该遮光层中的形成于基板侧的下层部在436nm波长下的光学浓度为1.0以上。此外，上述光掩模的制造方法使用该光掩模空白片制造光掩模。并且，上述显示装置的制造方法使用该光掩模制造显示装置。

公开(公告)号：CN107861333A

公开(公告)日：2018-03-30

申请号：CN201710794878.0

申请日：2017-09-06

Applicant: HOYA株式会社 ,  HOYA电子马来西亚有限公司

Inventor： 坪井诚治 ,  浅川敬司 ,  中村真实 ,  阿山兼士 ,  安森顺一

IPC: G03F1/26 ,  G03F1/80 ,  G03F1/76

CPC classification number: G03F1/26 ,  G03F1/76 ,  G03F1/80

Abstract: 本发明提供能够使掩模图案截面形状的垂直化的光掩模坯料及其制造方法。本发明还提供使用其的光掩模的制造方法及显示装置的制造方法。本发明的光掩模坯料具有透明基板(1)、遮光层(2)和减反射层(3)，遮光层(2)由含有铬和氮的铬化合物形成，减反射层(3)由含有铬、氮和氧的铬化合物形成，减反射层(3)中含有的铬的含量少于遮光层(2)中含有的铬的含量，减反射层(3)是叠层了多层的叠层膜，减反射层(3)的表面侧的上层部(32)所含有的氧含量多于减反射层(3)的遮光层侧的下层部(31)所含有的氧含量，在上层部(32)的表面侧具有实质上不含碳的区域，在该区域，氧朝向最表面连续地增加，且氧相对于氮的比例(O/N)的最大值为5以上。