公开(公告)号：CN116917376A

公开(公告)日：2023-10-20

申请号：CN202280017152.5

申请日：2022-03-22

申请人： JSR株式会社

发明人： 川岛直之 ,  山下祐徳 ,  穴吹翔马 ,  亀山洸瑠 ,  西野健太 ,  篠原新 ,  藤冨晋太郎

IPC分类号： C08G65/40

摘要： 本发明的一实施方式涉及一种聚合物、组合物、硬化物、层叠体或电子零件，所述聚合物具有式(1)所表示的重复结构单元，并在末端具有式(a)所表示的基Y：X分别独立地为‑O‑、‑S‑或‑N(R3)‑，R3为氢原子、碳数1～20的一价烃基、碳数1～20的一价卤化烃基、或者这些烃基或卤化烃基中的一部分经选自氧原子及硫原子中的至少一种取代而成的基，R1为二价有机基，R2为二价未经取代或经取代的含氮杂芳香族环；‑Y(a)Y为碳数3～50的含有乙烯性不饱和双键的基、碳数6～50的未经取代或经取代的芳香族烃基、碳数6～50的未经取代或经取代的脂肪族烃基、或未经取代的含氮杂芳香族环，在所述芳香族烃基或脂肪族烃基具有取代基的情况下，所述取代基为羟基以外的基。#imgabs0#

公开(公告)号：CN118401610A

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN202380015052.3

申请日：2023-01-30

申请人： JSR株式会社

发明人： 门田敏明 ,  饭塚俊介 ,  冈本浩一 ,  西野健太

IPC分类号： C08L79/04 ,  B32B27/42 ,  C08G73/06

摘要： 本发明的一实施方式涉及一种聚合物、组合物、硬化物、层叠体或电子零件，所述组合物包含含有下述式(1)所表示的重复单元的聚合物。〔式(1)中，‑N(R')‑R3‑N(R')‑是未经取代或经取代基取代的二聚物二胺来源的结构，R'、R1及R2分别独立地为氢原子、卤素原子、未经取代或经取代基取代的碳数1～20的烃基、未经取代或经取代基取代的碳数3～20的杂环式脂肪族基、或者未经取代或经取代基取代的碳数3～20的杂环式芳香族基，‑NR1R2可为R1与R2相互键结而成的环构成原子数5～20的含氮杂环基。〕#imgabs0#

公开(公告)号：CN116209706A

公开(公告)日：2023-06-02

申请号：CN202180058075.3

申请日：2021-08-19

申请人： JSR株式会社

发明人： 宫木伸行 ,  川岛直之 ,  山下祐徳 ,  穴吹翔马 ,  西野健太 ,  亀山洸瑠

IPC分类号： C08J5/24

摘要： 本发明提供一种用于制造可靠性高、对基材等的密接性也优异的多层印刷配线板的预浸体。本发明的预浸体含有：基材；以及具有由下述式(1‑1)、式(1‑2)及式(1‑3)中的至少一种所表示的结构单元的聚合物。