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公开(公告)号：CN119585468A
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202380055369.X
申请日：2023-09-26
Applicant: JX金属株式会社
Inventor： 岩泽翔平
IPC: C23C26/00 , H05K3/38
Abstract: 本发明涉及一种表面处理铜箔，其具有铜箔，及形成于上述铜箔的至少一个面的杂芳香族化合物层。杂芳香族化合物层含有杂芳香族化合物且Sp为0.10～1.00μm，上述杂芳香族化合物具有含有氮原子作为杂原子的杂环。
公开(公告)号：CN119585467A
申请号：CN202380054449.3
Abstract: 本发明涉及一种表面处理铜箔，其具有铜箔，及形成于上述铜箔的至少一个面的杂芳香族化合物层。杂芳香族化合物层含有杂芳香族化合物且Sdr为0.1～15.0％，上述杂芳香族化合物具有含有氮原子作为杂原子的杂环。
公开(公告)号：CN119546801A
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202380053761.0
Abstract: 本发明涉及一种表面处理铜箔，其具有铜箔，及形成于上述铜箔的至少一个面的杂芳香族化合物层。杂芳香族化合物层含有杂芳香族化合物且Ssk为‑2.00～‑0.10，上述杂芳香族化合物具有含有氮原子作为杂原子的杂环。
