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公开(公告)号:CN103079716A
公开(公告)日:2013-05-01
申请号:CN201180040207.6
申请日:2011-08-17
Applicant: LG化学株式会社
Abstract: 本发明公开了一种流体供给装置,其包括:内管,其具有多个孔,用于分配从供给单元提供的流体;以及外管,其包围内管设置,并且具有多个狭缝,用于将从孔分配到其中的流体喷射到外部。该外管与内管的长度基本相同。该流体供给装置可以用于薄膜清洁系统或方法中。
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公开(公告)号:CN105470446A
公开(公告)日:2016-04-06
申请号:CN201510632861.6
申请日:2015-09-29
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: F26B3/28 , H01M4/0471 , H01M4/131 , H01M4/1391 , H01M4/62 , H01M4/622 , H01M4/661 , H01M4/04 , H01M4/13 , H01M4/139
Abstract: 本发明公开一种制造电极的方法,该方法包括将包含集电器以及涂覆在该集电器上且含有电极活性材料、粘合剂和溶剂的电极活性材料浆体的电极片干燥,其中,所述电极片通过将波长为1μm至3μm的中红外射线辐射到电极片上的中红外灯干燥,而且电极片的表面温度具有范围为50℃至70℃的恒定区。由于电极是利用中红外灯来干燥的,因此所述电极可以得到均匀地干燥而且电极活性材料层与集电器之间的粘合力得到了极大的提高,这使得应用所述电极的电池的性能得到了很大的提升。
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公开(公告)号:CN103079716B
公开(公告)日:2015-08-26
申请号:CN201180040207.6
申请日:2011-08-17
Applicant: LG化学株式会社
Abstract: 本发明公开了一种流体供给装置,其包括:内管,其具有多个孔,用于分配从供给单元提供的流体;以及外管,其包围内管设置,并且具有多个狭缝,用于将从孔分配到其中的流体喷射到外部。该外管与内管的长度基本相同。该流体供给装置可以用于薄膜清洁系统或方法中。
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公开(公告)号:CN105537055B
公开(公告)日:2018-06-08
申请号:CN201510695295.3
申请日:2015-10-22
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: H01M4/0404 , B05C5/001 , B05C5/0254 , B05C5/027 , H01M4/139
Abstract: 公开了一种狭槽涂布机,包括:进给单元,所述进给单元具有供涂布液流入的通道;歧管,所述歧管用于容纳通过所述进给单元供应的涂布液;排出单元,所述排出单元与所述歧管相通以排出容纳在所述歧管中的涂布液;多个垫板,所述多个垫板在所述歧管的长度方向上以规则的间隔布置;以及温度控制单元,用于在相对靠近所述进给单元的垫板与相对远离所述进给单元的垫板之间产生温度差。
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公开(公告)号:CN105537055A
公开(公告)日:2016-05-04
申请号:CN201510695295.3
申请日:2015-10-22
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: H01M4/0404 , B05C5/001 , B05C5/0254 , B05C5/027 , H01M4/139 , B05C1/0813 , B05C11/1042 , H01M4/0407
Abstract: 公开了一种狭槽涂布机,包括:进给单元,所述进给单元具有供涂布液流入的通道;歧管,所述歧管用于容纳通过所述进给单元供应的涂布液;排出单元,所述排出单元与所述歧管相通以排出容纳在所述歧管中的涂布液;多个垫板,所述多个垫板在所述歧管的长度方向上以规则的间隔布置;以及温度控制单元,用于在相对靠近所述进给单元的垫板与相对远离所述进给单元的垫板之间产生温度差。
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公开(公告)号:CN104781016A
公开(公告)日:2015-07-15
申请号:CN201480003040.X
申请日:2014-02-28
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: B05C9/10 , B05C5/005 , B05C5/008 , B05C5/0245 , B05C5/0254 , B05C11/02 , B05C11/10
Abstract: 本申请涉及一种狭缝式模具涂布装置,更具体而言,涉及一种狭缝式模具涂布装置,该装置在进行狭缝式模具涂布时,能够通过降低真空室内的压力振荡来确保基膜的涂布稳定性。根据本申请的狭缝式模具涂布装置通过将压力振荡减低箱连接至真空室,可以有效抑制真空室内的压力振荡,因而能够确保基膜上的涂布稳定性,从而降低缺陷产品的比例。
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公开(公告)号:CN104781016B
公开(公告)日:2017-03-29
申请号:CN201480003040.X
申请日:2014-02-28
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: B05C9/10 , B05C5/005 , B05C5/008 , B05C5/0245 , B05C5/0254 , B05C11/02 , B05C11/10
Abstract: 本申请涉及一种狭缝式模具涂布装置,更具体而言,涉及一种狭缝式模具涂布装置,该装置在进行狭缝式模具涂布时,能够通过降低真空室内的压力振荡来确保基膜的涂布稳定性。根据本申请的狭缝式模具涂布装置通过将压力振荡减低箱连接至真空室,可以有效抑制真空室内的压力振荡,因而能够确保基膜上的涂布稳定性,从而降低缺陷产品的比例。
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