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公开(公告)号：CN104884557B
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201480003614.3
申请日：2014-06-18
Applicant: LG化学株式会社
IPC: C09J4/02 , C09J175/04 , G02B5/30 , G02F1/13
CPC classification number: C09J133/06 , C08G2170/40 , C09J4/00 , C09J7/385 , C09J133/066 , C09J175/04 , C09J2203/318 , C09J2433/00 , G02B1/04 , G02B5/3033 , G02F1/133528 , G02F2202/28 , C08F220/06 , C08L33/08 , C08F2220/1825 , C08F220/20 , C08F220/14
Abstract: 本发明提供一种压敏粘合剂组合物、一种压敏粘合剂光学层压体、一种压敏粘合剂偏光板以及一种显示装置。所述压敏粘合剂组合物提供如下的压敏粘合剂：即使当压敏粘合剂层比通常的粘合剂组合物形成的层更薄时，通过提高的硬度，该压敏粘合剂具有优异的耐久性和制备过程中的可加工性，并且该压敏粘合剂可以防止压敏粘合剂的压痕和渗漏以及当用于光学元件(如偏光板等)时产生的弯曲问题。
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公开(公告)号：CN105308103A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201480032961.9
申请日：2014-06-19
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: G02B1/08 , B29C55/005 , B29C55/02 , B29C55/023 , B29C55/04 , B29K2055/00 , B29K2075/00 , B29L2009/00 , B32B27/00 , B32B27/08 , B32B27/306 , B32B27/40 , B32B2250/02 , B32B2250/24 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2307/42 , B32B2307/51 , B32B2307/536 , B32B2307/54 , B32B2307/5825 , B32B2307/732 , B32B2457/202 , B32B2551/00 , C08G18/4238 , C08G18/7671 , C08J5/18 , C08J2375/04 , C08J2375/06 , G02B5/3025 , G02B5/3033 , C08G18/10 , C08G18/3206
Abstract: 本发明提供了一种基膜、一种积层体以及一种制备偏光膜的方法。本发明提供了一种能够有效地制备偏光膜的基膜、一种积层体以及一种制备偏光膜方法，所述偏光膜的厚度为约10μm以下、约8μm以下、约7μm以下、约6μm以下或约5μm以下，并具有优异的功能，例如偏光性能。根据本发明可以防止在延伸处理中产生撕裂或卷曲等，并且可以通过容易地延伸可偏光材料例如PVA类树脂而制备偏光膜。
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公开(公告)号：CN104884557A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201480003614.3
申请日：2014-06-18
Applicant: LG化学株式会社
IPC: C09J4/02 , C09J175/04 , G02B5/30 , G02F1/13
CPC classification number: C09J133/06 , C08G2170/40 , C09J4/00 , C09J7/385 , C09J133/066 , C09J175/04 , C09J2203/318 , C09J2433/00 , G02B1/04 , G02B5/3033 , G02F1/133528 , G02F2202/28 , C08F220/06 , C08L33/08 , C08F2220/1825 , C08F220/20 , C08F220/14
Abstract: 本发明提供一种压敏粘合剂组合物、一种压敏粘合剂光学层压体、一种压敏粘合剂偏光板以及一种显示装置。所述压敏粘合剂组合物提供如下的压敏粘合剂：即使当压敏粘合剂层比通常的粘合剂组合物形成的层更薄时，通过提高的硬度，该压敏粘合剂具有优异的耐久性和制备过程中的可加工性，并且该压敏粘合剂可以防止压敏粘合剂的压痕和渗漏以及当用于光学元件(如偏光板等)时产生的弯曲问题。
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公开(公告)号：CN105308103B
公开(公告)日：2018-02-27
申请号：CN201480032961.9
申请日：2014-06-19
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: G02B1/08 , B29C55/005 , B29C55/02 , B29C55/023 , B29C55/04 , B29K2055/00 , B29K2075/00 , B29L2009/00 , B32B27/00 , B32B27/08 , B32B27/306 , B32B27/40 , B32B2250/02 , B32B2250/24 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2307/42 , B32B2307/51 , B32B2307/536 , B32B2307/54 , B32B2307/5825 , B32B2307/732 , B32B2457/202 , B32B2551/00 , C08G18/4238 , C08G18/7671 , C08J5/18 , C08J2375/04 , C08J2375/06 , G02B5/3025 , G02B5/3033 , C08G18/10 , C08G18/3206
Abstract: 本发明提供了一种基膜、一种积层体以及一种制备偏光膜的方法。本发明提供了一种能够有效地制备偏光膜的基膜、一种积层体以及一种制备偏光膜方法，所述偏光膜的厚度为约10μm以下、约8μm以下、约7μm以下、约6μm以下或约5μm以下，并具有优异的功能，例如偏光性能。根据本发明可以防止在延伸处理中产生撕裂或卷曲等，并且可以通过容易地延伸可偏光材料例如PVA类树脂而制备偏光膜。
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