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公开(公告)号：CN113026008B
公开(公告)日：2022-02-25
申请号：CN202110219098.X
申请日：2021-02-26
申请人： MEC股份有限公司
摘要： 本发明提供一种用于在金属表面形成与树脂的粘接性优异的覆膜的覆膜形成用组合物、及具备使用该组合物所形成的覆膜的表面处理金属构件。覆膜形成用组合物为含有含氨基的硅烷偶合剂、金属离子以及卤化物离子的溶液。金属离子优选为铜离子，溶液中的铜离子浓度优选为0.1mM至60mM。溶液中的Si量相对于Cu量以摩尔比计优选为30以下。溶液的pH值优选为2.8至6.2。
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公开(公告)号：CN113026008A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN202110219098.X
申请日：2021-02-26
申请人： MEC股份有限公司
摘要： 本发明提供一种用于在金属表面形成与树脂的粘接性优异的覆膜的覆膜形成用组合物、及具备使用该组合物所形成的覆膜的表面处理金属构件。覆膜形成用组合物为含有含氨基的硅烷偶合剂、金属离子以及卤化物离子的溶液。金属离子优选为铜离子，溶液中的铜离子浓度优选为0.1mM至60mM。溶液中的Si量相对于Cu量以摩尔比计优选为30以下。溶液的pH值优选为2.8至6.2。
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公开(公告)号：CN107208280B
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201680007726.5
申请日：2016-01-21
申请人： MEC股份有限公司
CPC分类号： C23F1/26 , C23F1/44 , H01L21/32133 , H05K3/108
摘要： 本发明的目的在于提供一种蚀刻液及使用该蚀刻液的蚀刻方法，所述蚀刻液可在铜的存在下选择性地蚀刻钛，而且毒性低，保存稳定性优异。本发明的蚀刻液含有选自由硫酸、盐酸及三氯乙酸所组成的群组中的至少一种酸与选自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所组成的群组中的至少一种有机硫化合物，可在铜的存在下选择性地蚀刻钛。
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公开(公告)号：CN107208280A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680007726.5
申请日：2016-01-21
申请人： MEC股份有限公司
CPC分类号： C23F1/26 , C23F1/44 , H01L21/32133 , H05K3/108
摘要： 本发明的目的在于提供一种蚀刻液及使用该蚀刻液的蚀刻方法，所述蚀刻液可在铜的存在下选择性地蚀刻钛，而且毒性低，保存稳定性优异。本发明的蚀刻液含有选自由硫酸、盐酸及三氯乙酸所组成的群组中的至少一种酸与选自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所组成的群组中的至少一种有机硫化合物，可在铜的存在下选择性地蚀刻钛。
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