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公开(公告)号：CN101978245A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200980109388.6
申请日：2009-01-21
申请人： MKS仪器公司
IPC分类号： G01F25/00
CPC分类号： G01F25/0038 , G01F22/02 , G01F25/0053
摘要： 公开了一种用于检验由流体输送设备进行的流量测量的高精度质量流量检验器(HAMFV)，其提供在具有低入口压强的宽流量检验范围上的高测量精度。HAMFV包括界定具有上游阀的数量为N的入口的腔室、具有下游阀的出口、构造成分别测量腔室内的流体的压强和温度的压强传感器以及温度传感器。数量为N的临界流量喷嘴放置在相应上游阀附近。HAMFV进一步包括控制器，该控制器构造成根据期望的流量检验范围和流体类型，通过打开相应的上游阀并关闭其它所有的上游阀来启动数量为N的临界流量喷嘴中的一个。数量为N的临界流量喷嘴中的至少两个具有不同的截面面积。
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公开(公告)号：CN101978245B
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN200980109388.6
申请日：2009-01-21
申请人： MKS仪器公司
IPC分类号： G01F25/00
CPC分类号： G01F25/0038 , G01F22/02 , G01F25/0053
摘要： 公开了一种用于检验由流体输送设备进行的流量测量的高精度质量流量检验器(HAMFV)，其提供在具有低入口压强的宽流量检验范围上的高测量精度。HAMFV包括界定具有上游阀的数量为N的入口的腔室、具有下游阀的出口、构造成分别测量腔室内的流体的压强和温度的压强传感器以及温度传感器。数量为N的临界流量喷嘴放置在相应上游阀附近。HAMFV进一步包括控制器，该控制器构造成根据期望的流量检验范围和流体类型，通过打开相应的上游阀并关闭其它所有的上游阀来启动数量为N的临界流量喷嘴中的一个。数量为N的临界流量喷嘴中的至少两个具有不同的截面面积。
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公开(公告)号：CN102483344A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080033129.2
申请日：2010-07-15
申请人： MKS仪器公司
IPC分类号： G01F25/00
CPC分类号： G01F1/80 , G01F5/00 , G01F25/00 , G01F25/0038 , G01F25/0053
摘要： 本公开涉及用于测量和检验通过诸如质量流量控制器的质量流量传输/测量装置的质量流量的质量流量检验系统和方法。质量流量检验系统包括预设体积、温度传感器和压力传感器。由质量流量检验系统确定的测量的经检验的流量可调整成补偿由质量流量测量装置内的死体积导致的误差。
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公开(公告)号：CN102301208A
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN200980154214.1
申请日：2009-11-18
申请人： MKS仪器公司
CPC分类号： G01F25/0053 , G05D7/0647
摘要： 一种系统执行流体质量流递送，并且还执行流体的质量流检验。该系统包括控制流体流入腔的入口阀、控制流体流出腔的出口阀、测量腔内流体压力的压力换能器、测量腔内流体温度的温度传感器以及控制器。控制器配置以使用腔内压力和温度变化的测量值而控制入口和出口阀的打开和关闭，以使得当处于第一模式时检验由一设备对流体流率的测量，以及当处于第二模式时以便于将所需量的流体从腔递送至处理设备。
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公开(公告)号：CN102483344B
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201080033129.2
申请日：2010-07-15
申请人： MKS仪器公司
IPC分类号： G01F25/00
CPC分类号： G01F1/80 , G01F5/00 , G01F25/00 , G01F25/0038 , G01F25/0053
摘要： 本公开涉及用于测量和检验通过诸如质量流量控制器的质量流量传输/测量装置的质量流量的质量流量检验系统和方法。质量流量检验系统包括预设体积、温度传感器和压力传感器。由质量流量检验系统确定的测量的经检验的流量可调整成补偿由质量流量测量装置内的死体积导致的误差。
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公开(公告)号：CN102301208B
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN200980154214.1
申请日：2009-11-18
申请人： MKS仪器公司
CPC分类号： G01F25/0053 , G05D7/0647
摘要： 一种系统执行流体质量流递送，并且还执行流体的质量流检验。该系统包括控制流体流入腔的入口阀、控制流体流出腔的出口阀、测量腔内流体压力的压力换能器、测量腔内流体温度的温度传感器以及控制器。控制器配置以使用腔内压力和温度变化的测量值而控制入口和出口阀的打开和关闭，以使得当处于第一模式时检验由一设备对流体流率的测量，以及当处于第二模式时以便于将所需量的流体从腔递送至处理设备。
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