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公开(公告)号:CN117859412A
公开(公告)日:2024-04-09
申请号:CN202280039359.2
申请日:2022-04-01
Applicant: TAE技术公司
Inventor: D·马歇尔 , A·穆奇尼科夫 , S·弗多维切夫
IPC: H05H6/00
Abstract: 本文描述了钝化区域和装置配置。钝化区域可以配置为密封防止目标材料从下方区域扩散到钝化区域中和/或扩散穿过钝化区域。钝化区域还可以配置为密封防止外部来源物质或环境物质扩散到钝化区域中和/或穿过钝化区域朝下方区域扩散。