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公开(公告)号:CN1933006B
公开(公告)日:2011-03-30
申请号:CN200610153487.2
申请日:2006-09-15
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B5/6005 , G11B5/4833 , Y10T29/49032 , Y10T29/49036 , Y10T29/5313 , Y10T29/53165
Abstract: 本发明提供一种仅通过对挠性体赋予较小的弯曲位移就能够自动地执行确保较大的静止姿态角的变化量的操作的磁头的静止姿态角修正方法及装置。将与薄膜磁头(2)的静止姿态角的值对应的修正条件赋予等级、预先存储在计算机系统(94)的存储部(942)中。通过测量装置(93)测量薄膜磁头(2)的静止姿态角。将该测量值供给到计算机系统(94),根据对应于测量值的修正条件,通过修正装置(92)对挠性体(12)施加用来进行静止姿态角修正的弯曲。接着,对挠性体(12)的产生弯曲的区域照射激光。
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公开(公告)号:CN1933006A
公开(公告)日:2007-03-21
申请号:CN200610153487.2
申请日:2006-09-15
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B5/6005 , G11B5/4833 , Y10T29/49032 , Y10T29/49036 , Y10T29/5313 , Y10T29/53165
Abstract: 本发明提供一种仅通过对挠性体赋予较小的弯曲位移就能够自动地执行确保较大的静止姿态角的变化量的操作的磁头的静止姿态角修正方法及装置。将与薄膜磁头(2)的静止姿态角的值对应的修正条件赋予等级、预先存储在计算机系统(94)的存储部(942)中。通过测量装置(93)测量薄膜磁头(2)的静止姿态角。将该测量值供给到计算机系统(94),根据对应于测量值的修正条件,通过修正装置(92)对挠性体(12)施加用来进行静止姿态角修正的弯曲。接着,对挠性体(12)的产生弯曲的区域照射激光。
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