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公开(公告)号：CN102792157B
公开(公告)日：2016-10-19
申请号：CN201180012902.1
申请日：2011-02-08
申请人： X射线光学系统公司
IPC分类号： G01N23/207 , G01N1/28
CPC分类号： G01N23/223 , G01N23/12 , G01N2223/076
摘要： 一种x射线分析系统，具有用于生成被导向x射线分析聚焦区域的x射线激励射束的x射线源；以及用于将流体样本提供到所述x射线分析聚焦区域的样本室。所述x射线激励射束由x射线引擎生成，并穿过处于所述室的壁上的x射线透明屏障，从而在由所述室界定的空间内界定分析聚焦区域。采用引导所述样本流的支持结构将所述流体样本提供为在所述空间内受到支持的并且流经所述聚焦区域的流。因此，所述室的屏障既与所述聚焦区域分离又与所述样本分离，从而得到了对所述屏障的更低的污损。
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公开(公告)号：CN102792157A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201180012902.1
申请日：2011-02-08
申请人： X射线光学系统公司
IPC分类号： G01N23/207 , G01N1/28
CPC分类号： G01N23/223 , G01N23/12 , G01N2223/076
摘要： 一种x射线分析系统，具有用于生成被导向x射线分析聚焦区域的x射线激励射束的x射线源；以及用于将流体样本提供到所述x射线分析聚焦区域的样本室。所述x射线激励射束由x射线引擎生成，并穿过处于所述室的壁上的x射线透明屏障，从而在由所述室界定的空间内界定分析聚焦区域。采用引导所述样本流的支持结构将所述流体样本提供为在所述空间内受到支持的并且流经所述聚焦区域的流。因此，所述室的屏障既与所述聚焦区域分离又与所述样本分离，从而得到了对所述屏障的更低的污损。
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公开(公告)号：CN103119841B
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201180046069.2
申请日：2011-07-26
申请人： X射线光学系统公司
IPC分类号： H02M3/28
摘要： 一种屏蔽式、低噪音、高电压电源，其具有多个电压倍增器，每一个电压倍增器具有环形变压器并且共同地利用AC电压产生高DC输出电压。主导体输送该AC电压，并且位于所述多个电压倍增器的每个环形变压器附近。导电壳体导电地连接到主导体，而且基本上包围多个电压倍增器和主导体，导电壳体为主导体中的AC电压提供了返回路径，并且提供了对电压倍增器和主导体的EMI屏蔽。还提供了其它特征，包括用于调理/隔离AC电压的中间变压器。
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公开(公告)号：CN103119841A
公开(公告)日：2013-05-22
申请号：CN201180046069.2
申请日：2011-07-26
申请人： X射线光学系统公司
IPC分类号： H02M3/28
摘要： 一种屏蔽式、低噪音、高电压电源，其具有多个电压倍增器，每一个电压倍增器具有环形变压器并且共同地利用AC电压产生高DC输出电压。主导体输送该AC电压，并且位于所述多个电压倍增器的每个环形变压器附近。导电壳体导电地连接到主导体，而且基本上包围多个电压倍增器和主导体，导电壳体为主导体中的AC电压提供了返回路径，并且提供了对电压倍增器和主导体的EMI屏蔽。还提供了其它特征，包括用于调理/隔离AC电压的中间变压器。
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