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公开(公告)号：CN114174871B
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202080054543.5
申请日：2020-07-30
申请人： 东山薄膜株式会社
发明人： 松本裕伸
摘要： 提供具备高的防反射性、优异的耐擦伤性以及良好的防污性的防反射膜。防反射膜(10)具有：基材膜(12)；硬涂层(16)，其形成在基材膜(12)的面上；以及低折射率层(14)，其形成在硬涂层(16)的面上，低折射率层(14)含有：无机氧化物颗粒(18)，其在低折射率层(14)的表面形成凸部；空心二氧化硅颗粒(22)，其平均粒径比低折射率层(14)的平均厚度小；含氟化合物；以及粘结剂树脂，相对于低折射率层(14)的固体成分100质量％，无机氧化物颗粒(18)的含量为0.1质量％以上、4.0质量％以下，无机氧化物颗粒(18)与空心二氧化硅颗粒(22)的总量为10质量％以上、50质量％以下，无机氧化物颗粒(18)的平均粒径r与低折射率层(14)的平均厚度d的差(r‑d)为10nm以上、300nm以下。
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公开(公告)号：CN109451735B
公开(公告)日：2022-05-10
申请号：CN201880002109.5
申请日：2018-03-01
申请人： 东山薄膜株式会社
摘要： 本发明提供一种透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，其即使在设置了透明导电层的透明导电性膜中，也能够得到充分的耐粘连性，并且能够抑制识别性的下降。该带光学调整层的硬涂层膜具备由非结晶性聚合物构成的透明基材膜、顺序地层叠在该透明基材膜的一个面上的硬涂层及其上的光学调整层。光学调整层含有多个颗粒，这些颗粒的平均颗粒直径比光学调整层的平均膜厚大，该平均颗粒直径r1与该平均膜厚d1具有以下关系：50nm≤(r1‑d1)≤1900nm。光学调整层的表面的除了由颗粒形成的凸部以外的特定部分中的算术平均粗糙度Ra为0.3nm～20nm的范围。
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公开(公告)号：CN104903755B
公开(公告)日：2017-06-30
申请号：CN201480004150.8
申请日：2014-10-16
申请人： 日油株式会社
CPC分类号： G02B27/0006 , G02B1/111
摘要： 一种耐指纹性防反射膜，其是在透明基材膜的一个面上依次层积硬涂层、高折射率层、低折射率层而成的耐指纹性防反射膜。高折射率层的折射率为1.50～1.65、膜厚为130～180nm，低折射率层的折射率为1.36～1.42、膜厚为70～100nm。在波长350nm～850nm的范围内，最小反射率波长λ(最小)位于波长350～530nm处，在波长350nm～850nm的范围内，弯曲点的波长λ(拐点)具有λ(最小)＜λ(拐点)的关系。其中，可见光反射率为2.0％以下，反射彩度C小于6.0，皮脂污垢附着前后的反射色差ΔE小于7.0。
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公开(公告)号：CN102162864A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110038993.8
申请日：2011-02-15
申请人： 日油株式会社
摘要： 本发明提供一种具有优异的防反射性能、防静电性能、耐热性及耐擦伤性的单层结构防反射膜。该防反射膜是在透明基膜上直接层叠低折射率层而构成。该低折射率层为低折射率层用涂布液的固化物，所述低折射率层用涂布液含有(a)多官能(甲基)丙烯酸酯、(b)中空二氧化硅微粒及(c)由π共轭导电性高分子与掺杂剂构成的复合物。低折射率层用涂布液，相对于每100质量份(a)多官能(甲基)丙烯酸酯，(b)中空二氧化硅微粒为40～250质量份及(c)复合物为1～25质量份；同时，所述(c)复合物中，π共轭导电性高分子与掺杂剂的质量比设定为1∶1～1∶5。
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公开(公告)号：CN118055990A
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202280066183.X
申请日：2022-10-27
发明人： 白神幸男
IPC分类号： C09J133/14 , C09J7/38
摘要： 技术问题：提供一种具有优异的粘合力并且具有优异的复原性的粘合材料。技术方案：一种粘合材料，其由含有(A)具有交联性官能团的(甲基)丙烯酸系共聚物和(B)交联剂的粘合组合物的固化物构成，其特征在于，所述(A)(甲基)丙烯酸系共聚物是由活性自由基聚合得到的共聚物，所述固化物含有(X)分子量为500以下的(甲基)丙烯酸系化合物，所述固化物中的所述(X)(甲基)丙烯酸系化合物的含量为60质量ppm～5000质量ppm。
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公开(公告)号：CN114174871A
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202080054543.5
申请日：2020-07-30
申请人： 东山薄膜株式会社
发明人： 松本裕伸
摘要： 提供具备高的防反射性、优异的耐擦伤性以及良好的防污性的防反射膜。防反射膜(10)具有：基材膜(12)；硬涂层(16)，其形成在基材膜(12)的面上；以及低折射率层(14)，其形成在硬涂层(16)的面上，低折射率层(14)含有：无机氧化物颗粒(18)，其在低折射率层(14)的表面形成凸部；空心二氧化硅颗粒(22)，其平均粒径比低折射率层(14)的平均厚度小；含氟化合物；以及粘结剂树脂，相对于低折射率层(14)的固体成分100质量％，无机氧化物颗粒(18)的含量为0.1质量％以上、4.0质量％以下，无机氧化物颗粒(18)与空心二氧化硅颗粒(22)的总量为10质量％以上、50质量％以下，无机氧化物颗粒(18)的平均粒径r与低折射率层(14)的平均厚度d的差(r‑d)为10nm以上、300nm以下。
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公开(公告)号：CN109451735A
公开(公告)日：2019-03-08
申请号：CN201880002109.5
申请日：2018-03-01
申请人： 东山薄膜株式会社
摘要： 本发明提供一种透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，其即使在设置了透明导电层的透明导电性膜中，也能够得到充分的耐粘连性，并且能够抑制识别性的下降。该带光学调整层的硬涂层膜具备由非结晶性聚合物构成的透明基材膜、顺序地层叠在该透明基材膜的一个面上的硬涂层及其上的光学调整层。光学调整层含有多个颗粒，这些颗粒的平均颗粒直径比光学调整层的平均膜厚大，该平均颗粒直径r1与该平均膜厚d1具有以下关系：50nm≤(r1-d1)≤1900nm。光学调整层的表面的除了由颗粒形成的凸部以外的特定部分中的算术平均粗糙度Ra为0.3nm～20nm的范围。
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公开(公告)号：CN104903755A
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201480004150.8
申请日：2014-10-16
申请人： 日油株式会社
CPC分类号： G02B27/0006 , G02B1/111
摘要： 一种耐指纹性防反射膜，其是在透明基材膜的一个面上依次层积硬涂层、高折射率层、低折射率层而成的耐指纹性防反射膜。高折射率层的折射率为1.50～1.65、膜厚为130～180nm，低折射率层的折射率为1.36～1.42、膜厚为70～100nm。在波长350nm～850nm的范围内，最小反射率波长λ(最小)位于波长350～530nm处，在波长350nm～850nm的范围内，弯曲点的波长λ(拐点)具有λ(最小)＜λ(拐点)的关系。其中，可见光反射率为2.0％以下，反射彩度C小于6.0，皮脂污垢附着前后的反射色差ΔE小于7.0。
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