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公开(公告)号：CN106457279A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580022259.9
申请日：2015-06-30
申请人： 松下知识产权经营株式会社
摘要： 静电雾化装置具备：放电部(2)，其形成为能够保持液体；施加部(3)，其对放电部(2)施加电压；以及控制部(4)，其将施加部(3)的施加电压设定为能够生成规定量以上的带电微粒子水的规定电压。控制部(4)构成为以如下方式进行控制：在启动时将施加部(3)的施加电压设定为比规定电压低的规定电压，之后切换为规定电压。根据本装置，能够提供能够缩短直到静电雾化现象开始为止所需的时间的静电雾化装置。
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公开(公告)号：CN104302407A
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201380027302.1
申请日：2013-05-24
申请人： 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
CPC分类号： H01L33/50 , B05B5/00 , B05B5/005 , B05B5/006 , B05B5/0255 , B05B5/1608 , B05B5/1675 , H01L2933/0041
摘要： 用于制造光电子器件的方法和用于制造光电子器件的设备。在不同实施例中提出一种用于制造光电子器件的方法，该方法具有：将光电子器件的发光物质层喷溅到衬底（104）上，其中所述发光物质层的物质或物质混合物在喷溅时具有电荷，并且其中经充电的物质或至少部分经充电的物质混合物在喷溅所述发光物质层时具有比衬底（104）的至少一个区域更高的电势；以及其中所喷溅的发光物质的发光物质层的厚度借助于衬底（104）上的电势梯度在喷溅所述发光物质层期间被局部地调整。
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公开(公告)号：CN100475354C
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200480041495.7
申请日：2004-11-26
发明人： 山口尚纪 , 浅川广次 , 戴维·爱德华·威尔森 , 远山和美 , 林美俐
CPC分类号： B05B5/1691 , B05B5/005 , B05B5/0255 , B05B5/0533 , B05B9/0861 , B05B9/0866
摘要： 一种静电喷涂设备，能够确认该设备准备好用于将液体组合物静电喷涂于使用者的皮肤上。所述设备包括喷嘴(240)和用于通过喷嘴(240)分配液体组合物的泵(230)。发射电极(250)设置成对正分配的液体组合物静电充电以进行静电喷涂。所述设备设置有电源开关(60)和用于在喷涂模式与滴落模式之间进行选择的选择器(70)。在所述滴落模式中，仅该泵被致动以分配不带静电的液体组合物。在所述喷涂模式中，该泵与该发射电极都被致动以进行静电喷涂。因此，在静电喷涂开始之前，通过仅仅操纵该选择器，用户就能够容易地滴落液体组合物。
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公开(公告)号：CN1913975A
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN200480041495.7
申请日：2004-11-26
发明人： 山口尚纪 , 浅川广次 , 戴维·爱德华·威尔森 , 远山和美 , 林美俐
CPC分类号： B05B5/1691 , B05B5/005 , B05B5/0255 , B05B5/0533 , B05B9/0861 , B05B9/0866
摘要： 一种静电喷涂设备，能够确认该设备准备好用于将液体组合物静电喷涂于使用者的皮肤上。所述设备包括喷嘴(220)和用于通过喷嘴(240)分配液体组合物的泵(230)。发射电极(250)设置成对正分配的液体组合物静电充电以进行静电喷涂。所述设备设置有电源开关(60)和用于在喷涂模式与滴落模式之间进行选择的选择器(70)。在所述滴落模式中，仅该泵被致动以分配不带静电的液体组合物。在所述喷涂模式中，该泵与该发射电极都被致动以进行静电喷涂。因此，在静电喷涂开始之前，通过仅仅操纵该选择器，用户就能够容易地滴落液体组合物。
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公开(公告)号：CN104302407B
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201380027302.1
申请日：2013-05-24
申请人： 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
CPC分类号： H01L33/50 , B05B5/00 , B05B5/005 , B05B5/006 , B05B5/0255 , B05B5/1608 , B05B5/1675 , H01L2933/0041
摘要： 用于制造光电子器件的方法和用于制造光电子器件的设备。在不同实施例中提出一种用于制造光电子器件的方法，该方法具有：将光电子器件的发光物质层喷溅到衬底（104）上，其中所述发光物质层的物质或物质混合物在喷溅时具有电荷，并且其中经充电的物质或至少部分经充电的物质混合物在喷溅所述发光物质层时具有比衬底（104）的至少一个区域更高的电势；以及其中所喷溅的发光物质的发光物质层的厚度借助于衬底（104）上的电势梯度在喷溅所述发光物质层期间被局部地调整。
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公开(公告)号：CN104540599A
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201380042455.3
申请日：2013-08-14
申请人： 博兰智涂装控股公司
发明人： 史蒂文·安德鲁·迈尔斯 , 佩顿·泽维尔·科扎特
摘要： 一种包括静电喷涂系统(10)的系统，该静电喷涂系统包括配置成喷涂具有静电荷的材料的静电工具(12)和控制器(18)，并且其中，控制器配置成改变静电工具的模式，并且其中，模式是改变材料放电的速率、施加多少电荷到材料以及电荷何时施加到材料的不同工艺。
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公开(公告)号：CN103612207A
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201310634991.4
申请日：2013-12-02
申请人： 青岛理工大学
IPC分类号： B24B57/02
摘要： 本发明涉及一种磁增强电场下纳米粒子射流可控输运微量润滑磨削装备，通过在电晕区周围增加磁场，提高液滴的荷电量。它包括：外部设有高压直流静电发生器和磁场形成装置的喷嘴；喷嘴与纳米粒子供液系统、供气系统连接；高压直流静电发生器与可调高压直流电源的负极连接，可调高压直流电源的正极则与用于附着在工件不加工表面的工件加电装置连接，从而形成负电晕放电的形式；在静电放电的电晕区周围是磁场形成装置；纳米流体磨削液从喷嘴的喷头喷出雾化成液滴的同时在高压直流静电发生器及磁场形成装置的作用下对液滴荷电并被送入磨削区。
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公开(公告)号：CN101160173B
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN200680012937.4
申请日：2006-03-14
申请人： 拉伯赛特股份有限公司
CPC分类号： B05B5/005 , B01L3/0268 , B01L2300/0819 , B01L2300/0829 , B01L2400/027 , B01L2400/0415 , B01L2400/0436 , B01L2400/0487 , B05B17/06 , G01N35/1009 , G01N35/1074 , G01N2035/1034 , Y10T436/2575
摘要： 提供了一种用于流体输送的系统，其中一些流体保存在存储槽中。使用微滴发生器以从流体中产生微滴，例如像声喷射系统这样的基于喷嘴的系统或无喷嘴的系统。所产生的微滴具有一轨迹，由此它到达目标。使用一种电路以增大该微滴到达目标时不飞溅或反弹几率的方式来改变所产生微滴的一种或多种特征。该电路可以在不同实施方式中控制微滴的速度或微滴的韦伯数。该电路可以在微滴穿过的空间区域中产生电场。该电路可以通过使微滴接触离子从而使该微滴带电。
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公开(公告)号：CN101160173A
公开(公告)日：2008-04-09
申请号：CN200680012937.4
申请日：2006-03-14
申请人： 拉伯赛特股份有限公司
CPC分类号： B05B5/005 , B01L3/0268 , B01L2300/0819 , B01L2300/0829 , B01L2400/027 , B01L2400/0415 , B01L2400/0436 , B01L2400/0487 , B05B17/06 , G01N35/1009 , G01N35/1074 , G01N2035/1034 , Y10T436/2575
摘要： 提供了一种用于流体输送的系统，其中一些流体保存在存储槽中。使用微滴发生器以从流体中产生微滴，例如像声喷射系统这样的基于喷嘴的系统或无喷嘴的系统。所产生的微滴具有一轨迹，由此它到达目标。使用一种电路以增大该微滴到达目标时不飞溅或反弹几率的方式来改变所产生微滴的一种或多种特征。该电路可以在不同实施方式中控制微滴的速度或微滴的韦伯数。该电路可以在微滴穿过的空间区域中产生电场。该电路可以通过使微滴接触离子从而使该微滴带电。
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公开(公告)号：CN108698057A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680079611.7
申请日：2016-11-30
申请人： 卡莱流体技术有限公司
发明人： 詹姆斯·保罗·巴尔茨 , 泰特·罗素·斯旺森
CPC分类号： B05B5/0532 , B05B5/005 , B05B5/035 , B05B5/16 , F01D15/06 , F01D17/105 , H01M2/1022 , H01M2220/30 , H02J7/025
摘要： 一种系统可以包括静电喷施工具，该静电喷施工具具有涡轮发电机，该涡轮发电机配置成产生电功率以对喷雾静电充电。喷施工具还可以包括控制器，该控制器配置成监测来自涡轮发电机的电功率并且基于从一个或多个传感器接收的反馈指示气体供应改变流向涡轮发电机的气体流动。
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