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公开(公告)号:CN109031769A
公开(公告)日:2018-12-18
申请号:CN201811097337.3
申请日:2018-09-18
IPC分类号: G02F1/1335
CPC分类号: G02F1/133512 , G02F1/133514 , G02F1/133516
摘要: 本发明提出一种彩膜基板及其制作方法,彩膜基板包括玻璃基板、黑色矩阵以及色阻层,色阻层包括第一色阻、第二色阻以及第三色阻,制作方法包括:S1、提供玻璃基板,在玻璃基板上形成黑色矩阵;S2、在黑色矩阵上依次形成第一色阻、第二色阻、第三色阻;S3、烘烤固化后,形成色阻层。本发明有效减少烘烤设备、减少设备维护费用以及降低能耗。
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公开(公告)号:CN108957836A
公开(公告)日:2018-12-07
申请号:CN201810841582.4
申请日:2018-07-27
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号: G02F1/1335 , G09F9/33
CPC分类号: G02F1/133512 , G02F1/133514 , G02F1/133516 , G09F9/33
摘要: 本发明涉及显示技术领域,公开了一种彩膜基板及其制作方法、显示器件。所述彩膜基板的每一亚像素区域内填充有滤光层,所述滤光层中掺杂纳米颗粒,利用纳米颗粒对光线的散射作用,减少对光线的全反射作用,增加光线的出光量,提高光利用效率,降低显示产品的光线损失,降低功耗。
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公开(公告)号:CN108828846A
公开(公告)日:2018-11-16
申请号:CN201810671390.3
申请日:2018-06-26
申请人: 武汉华星光电技术有限公司
发明人: 施杰
IPC分类号: G02F1/1339 , G02F1/1335
CPC分类号: G02F1/13394 , G02F1/133516 , G02F2001/13398
摘要: 本申请公开了一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板、显示面板及设备,该彩膜基板包括基板、黑矩阵、像素层、覆盖层和至少一个支撑柱,黑矩阵设置在基板上,像素层设置在黑矩阵和基板上,覆盖层覆盖在像素层上,覆盖层具有多个凹槽;每个支撑柱包括互相连接的第一本体和第二本体,第一本体设置于覆盖层上,第二本体插设于凹槽中。通过上述方式,本申请能够增强支撑柱与覆盖层之间的稳定性,防止支撑柱脱落。
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公开(公告)号:CN108710238A
公开(公告)日:2018-10-26
申请号:CN201810495943.4
申请日:2018-05-22
申请人: 武汉华星光电技术有限公司
IPC分类号: G02F1/1335 , G02F1/1337
CPC分类号: G02F1/133514 , G02F1/133516 , G02F1/133723
摘要: 本发明提供一种彩膜基板的制作方法、印刷版、彩膜基板、待切割母板及显示面板。该彩膜基板的制作方法在印刷版一侧涂布配向材料形成整面的配向膜,利用印刷版将整面的配向膜印刷到彩膜基板母板上,使配向膜覆盖多个彩膜基板区域,使得制作彩膜基板的配向膜的印刷版的使用寿命得到提升,生产治具成本降低,同时在产品机种切换时无需对印刷版进行切换,降低产品切换带来的耗时,提升产能。
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公开(公告)号:CN108681142A
公开(公告)日:2018-10-19
申请号:CN201810495790.3
申请日:2018-05-22
申请人: 惠科股份有限公司
发明人: 黄北洲
IPC分类号: G02F1/1335
CPC分类号: G02F1/133512 , G02F1/133514 , G02F1/133516
摘要: 本发明实施例公开了一种显示面板的制作方法,该方法包括:提供一基板,基板上设置有至少一个曝光对位标识;在曝光对位标识远离基板的一侧形成彩色滤光层,彩色滤光层包括覆盖曝光对位标识的标识增厚层,标识增厚层与曝光对位标识的形状相同且大小相同;在彩色滤光层远离基板的一侧形成黑色光阻层;通过曝光对位标识和标识增厚层进行曝光对位,以对黑色光阻层进行曝光,形成黑色遮光层。本发明实施例提供的显示面板的制作方法,通过形成覆盖曝光对位标识的标识增厚层增加曝光对位标识所在位置的高度,在后续黑色光阻层形成后,可实现精准识别曝光对位标识,从而提高黑色遮光层的制作精度。
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公开(公告)号:CN104932138B
公开(公告)日:2018-08-28
申请号:CN201510393712.9
申请日:2015-07-07
申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
发明人: 赵闯
IPC分类号: G02F1/1335 , G02F1/1339 , G03F1/54
CPC分类号: G02F1/133516 , G02B5/223 , G02F1/1339 , G03F1/00 , G03F1/50 , G03F7/0007 , G03F7/2024
摘要: 本发明公开了一种光罩及彩膜基板的制备方法,属于显示技术领域,可简化彩膜基板的制备过程,提高彩膜基板的生产效率。该光罩包括:第一透光率的第一部分、第二透光率的第二部分和第三透光率的第三部分,所述第一部分对应彩膜基板的平坦层,所述第二部分对应所述彩膜基板的辅隔垫物,所述第三部分对应所述彩膜基板的主隔垫物。本发明可用于液晶电视、液晶显示器、手机、平板电脑等显示装置。
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公开(公告)号:CN104461132B
公开(公告)日:2018-06-01
申请号:CN201410668352.4
申请日:2014-11-20
申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
发明人: 叶成亮
IPC分类号: G06F3/041
CPC分类号: G06F3/0418 , G02F1/13338 , G02F1/133514 , G02F1/133516 , G06F3/041 , G06F3/0412 , G06F3/044 , G06F2203/04103
摘要: 本发明提供一种内嵌式触控组件,包括:一彩色滤光片基板(1)、设于所述彩色滤光片基板(1)内侧表面上的彩色光阻层(3),所述彩色光阻层(3)包括依次重复排列的红、绿、蓝三种颜色的光阻(R、G、B),所述红、绿、蓝三种颜色的光阻(R、G、B)中的一种或两种通过混合有机导电化合物成为导电光阻,具有导电功能,构成单一的触控驱动电极(Tx)、或单一的触控感应电极(Rx)、或触控驱动电极(Tx)与触控感应电极(Rx)。该内嵌式触控组件能够减少触控组件制程,与现有液晶面板制程共用,降低生产成本,提升市场竞争力,同时,与现有的采用金属黑色矩阵作为触控电极相比,更加环保。
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公开(公告)号:CN105388660B
公开(公告)日:2018-05-01
申请号:CN201510955635.1
申请日:2015-12-17
申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
发明人: 邓炜佳
IPC分类号: G02F1/1335 , G02F1/1362 , G02F1/13357
CPC分类号: G02F1/13439 , C09K11/02 , C09K11/62 , G02F1/1335 , G02F1/133516 , G02F1/133617 , G02F1/1368 , G02F2202/36 , H01B1/124 , H01L27/1259 , H05B33/28
摘要: 本发明提供一种COA型阵列基板的制备方法,使用掺杂有或未掺杂有石墨烯的PEDOT、PProDOT、PEDOT衍生物、或PProDOT衍生物代替传统的ITO作为像素电极的导电材料,使用含有羧基的ProDOT衍生物或EDOT衍生物修饰量子点,利用在电场作用下二者能够发生聚合的性质、以及TFT基板上的像素电极图案,使用电化学沉积的方法在TFT基板上形成包括红色滤光层、绿色滤光层、及蓝色滤光层的量子点彩色滤光膜,可实现量子点的零浪费,节约量子点的使用量,节约铟的使用量,降低生产和研发成本,保护环境;且得到的量子点彩膜通过化学键与电极层连接,具有较高的连接强度,避免了传统工艺中光刻胶与基板连接强度不够导致的剥落等不良的产生。
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公开(公告)号:CN103680367B
公开(公告)日:2018-03-23
申请号:CN201310426177.3
申请日:2013-09-18
申请人: 杜比实验室特许公司
CPC分类号: F21V9/40 , B82Y20/00 , F21V9/08 , F21V9/30 , G02B5/201 , G02B5/22 , G02F1/133514 , G02F1/133516 , G02F1/133617 , G02F2001/133614 , G02F2202/046 , H01L27/322 , H01L51/56 , H01L2251/5369 , H04N13/334 , Y10S977/774
摘要: 本发明涉及量子点/远程荧光显示系统改进。一种显示系统包括:被配置为发射具有第一光谱功率分布的第一光的光源;被配置为被第一光激励并将再循环光和第一光的至少一部分转换成第二光的光再生层,第二光包含(a)与一个或更多个原色对应的一次光谱分量和(b)不与一个或更多个原色对应的二次光谱分量;和被配置为接收第二光的一部分并从第二光的所述部分滤除二次光谱分量的陷波滤波器层。第二光的所述部分被引向显示系统的观察者,并被配置为呈现观察者可观看的图像。
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公开(公告)号:CN105278153B
公开(公告)日:2018-03-06
申请号:CN201510780914.9
申请日:2015-11-13
申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
发明人: 李冬泽
IPC分类号: G02F1/1335 , G02F1/13357 , H01L27/32
CPC分类号: G02F1/133516 , G02F1/0063 , G02F1/015 , G02F1/133514 , G02F1/133617 , G02F2001/0155 , G02F2001/133519 , G02F2201/08 , G02F2202/04 , G02F2202/36 , G02F2203/58 , H01L27/322 , H01L33/504 , H01L2933/0041
摘要: 本发明提供一种量子点彩膜基板的制备方法及量子点彩膜基板。本发明的量子点彩膜基板的制备方法,以图案化的光阻层为遮蔽层采用猝灭剂对量子点层进行选择性猝灭,得到选择性猝灭的量子点层,简化了量子点彩膜基板的制造工艺,降低了生产成本;本发明的量子点彩膜基板,量子点层不包含蓝色量子点材料,将蓝光背光与有机透明光阻层的搭配使用,在提高光利用率的情况下同时缩减了材料成本,且量子点为选择性猝灭的量子点层,该量子点层位于有机透明色阻层上的部分为被猝灭剂荧光猝灭处理的部分,在光照下不发光,从而在利用量子点材料提高色域、亮度的同时,避免了蓝色子像素处因出现混光而色不纯的现象,且其制备方法简单。
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