水箱及其清洁装置

    公开(公告)号:CN118904844A

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202411136690.3

    申请日:2024-08-19

    申请人: 陈可铭

    发明人: 陈可铭

    摘要: 本发明属于水箱清洗设备技术领域,特指一种水箱及其清洁装置,包括安装部;进水部,设有进水口;出水部,设有出水口;动力部,让水箱内的水自进水口进入进水部中;清洁部,安装在出水部与进水部之间,对来自于进水部的水进行清洁;反清洁部,用于对清洁部进行清洁;进水口位于出水口的下方,水箱内的水自进水口进入进水部,经过清洁部的清洁后从出水部的出水口流出回到水箱内。本发明在动力部的作用下,水箱内的水从位于下方的进水口进入,然后经过清洁部清洁后再从位于上方的出水口流出,形成一个下进水、上出水的循环,能够对水箱内的水流进行较好的清洁;反清洁部可对清洁部进行清洗,以延长清洗部的使用寿命,同时提升对水流的清洁效果。

    一种动物实验清洗消毒平台

    公开(公告)号:CN118904782A

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202411171286.X

    申请日:2024-08-26

    发明人: 王浩

    摘要: 本发明涉及动物实验仪器技术领域,且公开了一种动物实验清洗消毒平台,该动物实验清洗消毒平台,包括支撑架,所述支撑架外侧铰接安装有盖子,所述盖子外侧固定安装有把手,所述支撑架外侧设置有消毒组件、支撑组件及清理组件,所述消毒组件包括斜板,所述支撑架外侧固定安装有斜板,所述支撑架外侧固定安装有筛板。该动物实验清洗消毒平台,为了使该装置具有较好的消毒效果,通过设置有消毒组件,该组件配合把手将盖子合起,从而通过进水管配合软管、扁口及方槽向装置内部注入清水,同时配合斜板、筛板、开口、收集槽及旋钮将废水排出,同时配合电机带动风扇转动,同时配合加热器对装置内部进行快速烘干,同时配合消毒灯进行消毒。

    一种半导体湿法刻蚀清洁装置及清洁方法

    公开(公告)号:CN118888473A

    公开(公告)日:2024-11-01

    申请号:CN202410932380.6

    申请日:2024-07-12

    发明人: 刘祥义

    摘要: 本申请提供一种半导体湿法刻蚀清洁装置及清洁方法,涉及半导体晶圆加工领域。一种半导体湿法刻蚀清洁装置,包括:存储架,所述存储架的外侧固定连接有支腿架,且支腿架的底部固定连接有固定架,且固定架的一侧固定连接有气缸筒;所述存储架的内腔设置有升降组件,且升降组件的四周均设置有浸液组件;所述固定架的内腔设置有与气缸筒配合使用的供给组件,且供给组件的一侧设置有旋转组件。该半导体湿法刻蚀清洁装置及清洁方法,在对经过湿法刻蚀加工后的晶圆清洁期间,先对晶圆在清洗剂内进行反复下降浸没和升起脱离操作,将附着在晶圆表面的杂质进行反复浸没脱离清洁,同时对晶圆表面的杂质进行动态清洁操作。

    一种用于塑料回收的颗粒清洗装置

    公开(公告)号:CN118876282A

    公开(公告)日:2024-11-01

    申请号:CN202411396741.6

    申请日:2024-10-09

    发明人: 聂鑫 马蔚云

    摘要: 本发明涉及塑料回收技术领域,具体涉及一种用于塑料回收的颗粒清洗装置。一种用于塑料回收的颗粒清洗装置包括机架、弧形滤环、摩擦件、进料机构、集水机构、感应机构和驱动机构。进料机构包括进料斗、导料板和第一横杆。集水机构包括水槽和水管。感应机构用于当摩擦件沿弧形滤环的轴线移动时,使得第一横杆在滑槽滑动,进而使得导料板的上端跟随第一横杆滑动。驱动机构用于驱动摩擦件转动。本发明提供一种用于塑料回收的颗粒清洗装置,以解决现有的摩擦清洗机对塑料颗粒进行摩擦清洗后的物料容易受到污水的干扰,清洗效果差,且当摩擦腔发生堵塞时,虽然会扩大腔室,但此部分物料会容易直接排出,其不能达到有效清洗效果的问题。

    一种铝合金转向节模具挤压锻造装置及方法

    公开(公告)号:CN118875196A

    公开(公告)日:2024-11-01

    申请号:CN202411088002.0

    申请日:2024-08-09

    摘要: 本发明公开了一种铝合金转向节模具挤压锻造装置及方法,涉及转向节锻造的技术领域。本发明包括待挤压锻造的转向节胚料以及设置在底座上的支撑架,还包括设置在底座上的受压成型部以及设置在支撑架上的加压锻造部;受压成型部由成型组件与除杂组件构成;加压锻造部用于对转向节胚料进行加压锻造,并根据成型转向节的厚度调整加压锻造的位置与力度,实现针对性挤压锻造。优点在于:本发明通过采用整体挤压锻造与针对性加压锻造相配合的锻造方式,可根据成型转向节的形状厚度来施加不同的挤压锻造力度,实现不同厚度转向节的锻造成型,且锻造过程中可同步完成飞边的去除与碎屑清理,整体锻造效果更佳。

    一种铜箔表面清洗装置及方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118874940A

    公开(公告)日:2024-11-01

    申请号:CN202411388078.5

    申请日:2024-10-08

    发明人: 潘勤峰

    摘要: 本发明涉及铜箔清洗技术领域,具体涉及一种铜箔表面清洗装置及方法,包括:在浸泡清洗装置清洗铜箔的过程中,获取当前预设时段内每个时刻的铜箔表面气泡数量、搅拌速度以及超声波强度;根据当前预设时段内每个时刻的铜箔表面气泡数量和搅拌速度,确定当前预设时段的清洗状态真实指标;根据清洗状态真实指标和每个时刻下超声波设备的超声波强度,确定当前时刻下超声波设备的强度补偿系数;根据强度补偿系数确定下一时刻的浸泡清洗装置的设备参数。本发明通过确定强度补偿系数,避免了清洗设备参数调节不当所产生的清洗效果不高的问题。