Elektrostatisches Ablenksystem für Korpuskularstrahlung
    2.
    发明公开
    Elektrostatisches Ablenksystem für Korpuskularstrahlung 审中-公开
    Elektrostatisches AblenksystemfürKorpuskularstrahlung

    公开(公告)号:EP1688964A2

    公开(公告)日:2006-08-09

    申请号:EP06002118.5

    申请日:2006-02-02

    IPC分类号: G21K1/087

    CPC分类号: G21K1/087

    摘要: Die Erfindung betrifft elektrostatische Ablenksysteme für Korpuskularstrahlen, die insbesondere für mikro- und nanostrukturierte Anwendungen in Lithographieanlagen oder Messgeräten einsetzbar sind. Gemäß der gestellten Aufgabe sollen die einzelnen Elektroden eines solchen Ablenksystems dauerhaft eine sehr genaue axialsymmetrische Anordnung zueinander aufweisen und beibehalten. Bei dem erfindungsgemäßen elektrostatischen Ablenksystem sind stabförmige Elektroden in axialsymmetrischer Anordnung in einem innen hohlen Träger gehalten, durch den ein Korpuskularstrahl gerichtet werden kann. Der Träger ist dabei aus mindestens zwei und maximal vier miteinander verbindbaren Trägerelementen gebildet.

    摘要翻译: 用于微结构和纳米结构光刻或测量的用于微粒辐射的静电衍射系统包括在内部中空载体(1)中轴向和对称地保持电极束的杆电极。 载体包括两个和四个相互连接的载体元件(1.1,1.2)。