公开(公告)号：EP1688964A3

公开(公告)日：2008-08-13

申请号：EP06002118.5

申请日：2006-02-02

申请人： Leica Microsystems Lithography GmbH

发明人： Risse, Stefan, Dr. ,  Peschel, Thomas, Dr. ,  Damm, Christoph ,  Gebhardt, Andreas ,  Rohde, Mathias ,  Schenk, Christoph ,  Elster, Thomas, Dr. ,  Döring, Hans-Joachim ,  Schubert, Gerhard

IPC分类号： G21K1/087

CPC分类号： G21K1/087

摘要： Die Erfindung betrifft elektrostatische Ablenksysteme für Korpuskularstrahlen, die insbesondere für mikro- und nanostrukturierte Anwendungen in Lithographieanlagen oder Messgeräten einsetzbar sind. Gemäß der gestellten Aufgabe sollen die einzelnen Elektroden eines solchen Ablenksystems dauerhaft eine sehr genaue axialsymmetrische Anordnung zueinander aufweisen und beibehalten. Bei dem erfindungsgemäßen elektrostatischen Ablenksystem sind stabförmige Elektroden in axialsymmetrischer Anordnung in einem innen hohlen Träger gehalten, durch den ein Korpuskularstrahl gerichtet werden kann. Der Träger ist dabei aus mindestens zwei und maximal vier miteinander verbindbaren Trägerelementen gebildet.

公开(公告)号：EP1688964A2

公开(公告)日：2006-08-09

申请号：EP06002118.5

申请日：2006-02-02

申请人： Leica Microsystems Lithography GmbH

发明人： Risse, Stefan, Dr. ,  Peschel, Thomas, Dr. ,  Damm, Christoph ,  Gebhardt, Andreas ,  Rohde, Mathias ,  Schenk, Christoph ,  Elster, Thomas, Dr. ,  Döring, Hans-Joachim ,  Schubert, Gerhard

IPC分类号： G21K1/087

CPC分类号： G21K1/087

摘要： Die Erfindung betrifft elektrostatische Ablenksysteme für Korpuskularstrahlen, die insbesondere für mikro- und nanostrukturierte Anwendungen in Lithographieanlagen oder Messgeräten einsetzbar sind. Gemäß der gestellten Aufgabe sollen die einzelnen Elektroden eines solchen Ablenksystems dauerhaft eine sehr genaue axialsymmetrische Anordnung zueinander aufweisen und beibehalten. Bei dem erfindungsgemäßen elektrostatischen Ablenksystem sind stabförmige Elektroden in axialsymmetrischer Anordnung in einem innen hohlen Träger gehalten, durch den ein Korpuskularstrahl gerichtet werden kann. Der Träger ist dabei aus mindestens zwei und maximal vier miteinander verbindbaren Trägerelementen gebildet.

摘要翻译： 用于微结构和纳米结构光刻或测量的用于微粒辐射的静电衍射系统包括在内部中空载体（1）中轴向和对称地保持电极束的杆电极。 载体包括两个和四个相互连接的载体元件（1.1,1.2）。

公开(公告)号：EP1589560A1

公开(公告)日：2005-10-26

申请号：EP05101354.8

申请日：2005-02-23

申请人： Leica Microsystems Lithography GmbH

发明人： Elster, Thomas, Dr. ,  Hahmann, Peter, Dr. ,  Kirschstein, Ulf-Carsten ,  Krauhs, Dorothee ,  Fortagne, Andre

IPC分类号： H01J37/141

CPC分类号： H01J37/141 ,  H01J2237/2826

摘要： Es ist eine Objektivlinse (2) für einen geladenen Partikelstrahl offenbart. Das Objektivlinsensystem (20) der Objektivlinse (2) besteht aus einer Linsenwicklung (21) und einem Eisenkreis (22), wobei der Eisenkreis (22) einen unteren Polschuh (25) trägt, der konisch ausgebildet ist und gegenüber einer Oberfläche (6a) des Wafers (6) vorgesehen ist. Ein Stützzylinder (23) umgibt das Objektivlinsensystem (20), wobei sein unterer Teil ein Messsystem (24) zur Bestimmung der Höhenlage der Oberfläche (6a) des Wafers (6) umfasst.

摘要翻译： 用于带电粒子束的物镜（2）具有由物镜系统（20）包围的偏转系统（12）。 物镜系统包括透镜线圈（21）和铁环（22）。 铁环具有圆锥形并且与晶片（6）的表面相对布置的下极靴（25）。 支撑圆筒（23）围绕物镜系统（20）。 支撑筒具有与晶片表面相对的下部，下部具有用于确定晶片表面的高度位置的测量系统（24）。