Elektrische Durchführung und Verwendung der elektrischen Durchführung
    93.
    发明公开
    Elektrische Durchführung und Verwendung der elektrischen Durchführung 有权
    ElektrischeDurchführungund Verwendung der elektrischenDurchführung

    公开(公告)号:EP1361634A1

    公开(公告)日:2003-11-12

    申请号:EP03008538.5

    申请日:2003-04-12

    发明人: Zuch, Gerhard

    IPC分类号: H02G3/22

    CPC分类号: H02G3/22

    摘要: Eine elektrische Durchführung (18) mit einem von einem Mantelleiter (42) umgebenen Innenleiter (40), die gemeinsam durch ein Flanschelement (44) geführt sind, soll, insbesondere im Hinblick auf eine bevorzugte Verwendung für ein TDR-Messsystem zur Füllstandsüberwachung im Reaktordruckbehälter (2) einer kerntechnischen Anlage, besonders für eine Verwendung an einem Behälter geeignet sein, in dem auslegungsgemäß vergleichsweise hohe Drücke und/oder hohe Temperaturen herrschen können. Dazu ist erfindungsgemäß ein auf einer ersten Seite des Flanschelements (44) vom Innenleiter (40) und dem ihn umgebenden Mantelleiter (42) gebildeter erster Raumbereich (48) gegenüber einem auf einer zweiten Seite des Flanschelements (44) am Innenleiter (40) und den ihm umgebenden Mantelleiter (42) gebildeten zweiten Raumbereich (50) mittels einer Anzahl von Dichtringen (52) abgedichtet.

    摘要翻译: 电引线具有由通过法兰元件(44)共同馈送的外部导体(42)包围的内部导体(40),由此通过内部导体形成在凸缘元件的第一侧上的第一空间区域(48) 外部导体由内外导体形成在第二侧的空间区域(50)由多个密封环(52)分开。

    Verfahren zur Herstellung eines Implantatkörpers sowie Implantat mit einem derartigen Implantatkörper
    97.
    发明公开
    Verfahren zur Herstellung eines Implantatkörpers sowie Implantat mit einem derartigen Implantatkörper 审中-公开
    一种用于植入体的制备和具有这种植入体植入物的过程

    公开(公告)号:EP2543333A3

    公开(公告)日:2017-03-08

    申请号:EP12006929.9

    申请日:2007-06-27

    申请人: Zipprich, Holger

    发明人: Zipprich, Holger

    IPC分类号: A61C8/00 C04B35/486

    CPC分类号: A61C8/0012 A61C2008/0046

    摘要: Ein Verfahren zur Herstellung eines Keramikkörpers, insbesondere eines zur Einbringung in den menschlichen Körper vorgesehenen Implantatkörpers, insbesondere zur Verwendung in einem Dentalimplantat, soll im Vergleich zu bekannten Konzepten ein verbessertes Einwachs- oder Integrationsverhalten bei der Einheilung in den Knochen ermöglichen. Dazu wird erfindungsgemäß ein vorzugsweise auf Basis von Yttrium-und/oder Aluminiumoxid-stabilisiertem Zirkonoxid ausgeführter Keramik-Grundkörper derart einem Ätz-Prozess ausgesetzt, dass an seiner Oberfläche zumindest in einem Teilbereich einzelne, vorzugsweise stabilisierende und oder verstärkende, Keramik-Bestandteile wie beispielsweise chemische Elemente und/oder Oxide selektiv derart herausgelöst werden, dass an seiner Oberfläche zumindest in einem Teilbereich eine Verarmungszone mit im Vergleich zum Innenvolumen reduziertem Anteil am jeweiligen Keramik-Bestandteil, vorzugsweise an Yttrium- bzw. Aluminiumoxid oder einem anderen Stabilisator, entsteht.